柔性抛光X/Y定位能力对去除函数创成影响机制

柔性抛光机床各参数(如抛光液、磁场环境等)对去除函数创成偏差已经有所研究,但定位能力如何影响去除函数创成偏差的研究仍然缺乏。对于去除函数创成偏差如何受定位能力精度的影响做了以下研究。首先,定义了X/Y轴定位能力的分析和去除函数的表征,分析了两者之间的关联影响机制;然后,分析了机床分别从X轴正方向移动、Y轴正方向移动和XY轴正方向联动所带来去除函数创成偏差的影响;最后,得出了以下结论:当定位精度偏离值越大时,去除模型所受到的压力和剪切力的抛光区域越小;多轴联动偏差造成去除函数创成偏差的影响大于单轴移动;X/Y轴定位能力偏差值越大对去除函数创成偏差内重心和惯性矩的偏差值就会越大。