期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
初始埚位对单晶少子寿命的影响 被引量:3
1
作者 任丽 罗晓英 +1 位作者 李宁 王倩 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第10期782-785,共4页
在KX260晶体生长系统上装备24英寸(1英寸=2.54 cm)热场,装料量为120 kg。采用5种不同的初始埚位(-50,-60,-70,-80,-90 mm),其他工艺参数相同的晶体生长工艺,拉制了5根200 mm、p型、晶向〈100〉、电阻率2Ω.cm的单晶硅棒。待硅棒冷却后... 在KX260晶体生长系统上装备24英寸(1英寸=2.54 cm)热场,装料量为120 kg。采用5种不同的初始埚位(-50,-60,-70,-80,-90 mm),其他工艺参数相同的晶体生长工艺,拉制了5根200 mm、p型、晶向〈100〉、电阻率2Ω.cm的单晶硅棒。待硅棒冷却后,取片进行少子寿命和氧含量的测试,根据所得数据分析不同初始埚位对少子寿命的影响。由分析结果得出结论:随着初始埚位的提升,单晶硅棒少子寿命逐渐降低。结合实际生产利润及硅片品质需要,最后得到最适合晶体生长的初始埚位是-70 mm。 展开更多
关键词 直拉硅单晶 初始埚位 少子寿命 氧含量 硅棒
下载PDF
直拉硅单晶宽面控制工艺研究
2
作者 史继祥 韩焕鹏 《天津科技》 2017年第11期52-54,共3页
探究了影响偏离<111>晶向硅单晶晶体宽面的主要工艺因素,通过不同的晶体生长工艺参数设定来进行<111>晶向硅单晶生长试验,通过对比不同工艺参数对晶体宽面的影响,最终确定了控制单晶宽面的最优工艺,获得了外形大幅优化的<... 探究了影响偏离<111>晶向硅单晶晶体宽面的主要工艺因素,通过不同的晶体生长工艺参数设定来进行<111>晶向硅单晶生长试验,通过对比不同工艺参数对晶体宽面的影响,最终确定了控制单晶宽面的最优工艺,获得了外形大幅优化的<111>晶向硅单晶。 展开更多
关键词 〈111〉晶向 宽面 拉晶速率 初始埚位
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部