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绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计 被引量:1
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作者 郑黎明 谭向全 《机电产品开发与创新》 2014年第2期108-109,79,共3页
简述了绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计方案。针对曝光光源均匀性、图案畸变、精确放大倍率等难点问题,设计了刻划装置的专业装调方案。同时利用刻划装置的物理样机进行曝光加工,得到了满足设计要求的母光栅码道图案。
关键词 绝对式光栅尺 母尺光栅 刻划装置 曝光光源
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