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157nm激光微加工过程中激光参量对刻蚀性能的影响 被引量:3
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作者 戴玉堂 崔健磊 +1 位作者 徐刚 白帆 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期36-38,85,共4页
为了研究157nm激光工艺参量对刻蚀性能的影响,采用157nm深紫外激光对两种宽禁带材料(石英玻璃和蓝宝石)进行微刻蚀试验,得到了理想的工艺参量范围,蓝宝石的刻蚀速率大约是石英玻璃的一半,并且蓝宝石的刻蚀表面要比石英玻璃粗糙得多。随... 为了研究157nm激光工艺参量对刻蚀性能的影响,采用157nm深紫外激光对两种宽禁带材料(石英玻璃和蓝宝石)进行微刻蚀试验,得到了理想的工艺参量范围,蓝宝石的刻蚀速率大约是石英玻璃的一半,并且蓝宝石的刻蚀表面要比石英玻璃粗糙得多。随着刻蚀深度的增加,光解生成物的脱出变得困难,从而导致刻蚀速率的降低。选用较高的扫描速率和较低脉冲频率的组合进行激光扫描刻蚀能有效地降低刻蚀面的粗糙度。结果表明,对非金属材料的刻蚀,激光的能量密度在材料刻蚀阈值的2.5倍~4倍时能获得较好的刻蚀效果。 展开更多
关键词 激光技术 157nm激光 激光参量 刻蚀效率 刻蚀质量
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248nm准分子激光加工玻璃微通道的实验研究 被引量:3
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作者 田姗姗 陈涛 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第5期687-690,共4页
为了提高玻璃微通道的加工效率及质量,采用248nm准分子激光加工玻璃微通道的新型加工方法进行了理论分析和实验验证,取得了不同激光参量下玻璃微通道的加工工艺数据。结果表明,激光加工玻璃微通道的刻蚀阈值为4.54×103m J/mm2;随... 为了提高玻璃微通道的加工效率及质量,采用248nm准分子激光加工玻璃微通道的新型加工方法进行了理论分析和实验验证,取得了不同激光参量下玻璃微通道的加工工艺数据。结果表明,激光加工玻璃微通道的刻蚀阈值为4.54×103m J/mm2;随着激光能量的增加,刻蚀深度近似成对数增长,经线性拟合得到刻蚀深度随激光能量变化的公式;随着脉冲频率的增加,刻蚀深度近似成线性增长,经线性拟合得到刻蚀深度随频率变化的公式;且通道底面粗糙度随激光能量及脉冲频率的增加,呈增长趋势;激光的能量在400m J^600m J、脉冲频率在4Hz^7Hz范围的组合激光参量可实现刻蚀率高、粗糙度小的微通道加工。这些结果对于合理选择激光参量、提高玻璃微通道的加工效率及质量是有帮助的。 展开更多
关键词 激光技术 玻璃微通道 248mn激光 激光参量 刻蚀效率 刻蚀质量
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High hydrosilylation efficiency of porous silicon SiHx species produced by Pt-assisted chemical etching for biochip fabrication 被引量:1
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作者 XIAO MinYu HAN HuanMei XIAO ShouJun 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS 2013年第8期1152-1163,共12页
Porous silicon (PSi) prepared from Pt metal-assisted chemical etching (MACE) was demonstrated to possess higher hydrosi- lylation efficiency (-57%) than anodized PSi (-11%) by surface reaction with co-undeceny... Porous silicon (PSi) prepared from Pt metal-assisted chemical etching (MACE) was demonstrated to possess higher hydrosi- lylation efficiency (-57%) than anodized PSi (-11%) by surface reaction with co-undecenyl alcohol (UO). Deconvolution of the SiHx (x = 1-3) stretching bands revealed the abundance of SiH2 species on MaCE PSi was 53%, -10% higher than on ano- dized samples, while both of Sill1 and Sill3 were -5% lower correspondently on MaCE PSi than on anodized samples. The surface SiHx abundances were suggested to account for the higher hydrosilylation efficiency on MaCE PSi. Optimization of Pt-assisted chemical etching parameters suggested a 7-15 nm thick Pt-coating and an etching time of 3-10 min for biochip ap- plications. Scanning electron microscopy images revealed that an isotropic top meso-porous layer was beneficial for hydrosi- lylation and long-term durability under ambient conditions. To end, an example of histidine-tagged protein immobilization and microarray was illustrated. Combining the materials' property, surface chemistry, and micro-fabrication technology together, we envision that silicon based biochip applications have a prosperous future. 展开更多
关键词 metal-assisted chemical etching porous silicon surface chemistry HYDROSILYLATION BIOCHIP
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