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基于水平集方法的离子束刻蚀碲镉汞的轮廓演变模拟 被引量：1
1
作者 刘向阳 徐国庆 +2 位作者 贾嘉 孙艳 李向阳 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期331-337,共7页
用水平集方法建立了碲镉汞的离子束刻蚀轮廓的数值模型模型的输入参数包括掩膜厚度、掩膜侧壁倾角、掩膜沟槽宽度、离子束散角、刻蚀速度等参数.对碲镉汞的刻蚀轮廓和刻蚀速度减缓现象进行了模拟和实验验证结果表明在沟槽宽度为4~10μm... 用水平集方法建立了碲镉汞的离子束刻蚀轮廓的数值模型模型的输入参数包括掩膜厚度、掩膜侧壁倾角、掩膜沟槽宽度、离子束散角、刻蚀速度等参数.对碲镉汞的刻蚀轮廓和刻蚀速度减缓现象进行了模拟和实验验证结果表明在沟槽宽度为4~10μm的范围内计算得到的刻蚀深度和SEM测量结果相差6~20%.对掩膜的轮廓演变进行了模拟给出了一个优化设计掩膜厚度来提高深宽比的实例. 展开更多
关键词 碲镉汞 离子束 刻蚀轮廓 水平集方法 刻蚀速度减缓 深宽比
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