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光刻胶烘培特性研究
被引量:
8
1
作者
李淑红
杜春雷
董小春
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期17-19,24,共4页
通过研究光刻胶厚度与烘培过程中光敏混合物(PAC)浓度分布的关系,对光刻胶前烘模型进行了修正,得出了光刻胶内 PAC 相对浓度与光刻胶厚度、烘培温度和烘培时间之间的函数关系。设计了求解光刻胶激活能 E0和 Arrhenius 系数 Ar的实验方案...
通过研究光刻胶厚度与烘培过程中光敏混合物(PAC)浓度分布的关系,对光刻胶前烘模型进行了修正,得出了光刻胶内 PAC 相对浓度与光刻胶厚度、烘培温度和烘培时间之间的函数关系。设计了求解光刻胶激活能 E0和 Arrhenius 系数 Ar的实验方案,并以 AZ50XT 正型紫外光刻胶为例开展了实验研究。结果表明,对不同厚度的光刻胶,可以通过调整烘培温度或烘培时间达到所需要的 PAC 浓度。
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关键词
微光学
光刻胶
前烘模型
特性分析
光敏混合物
下载PDF
职称材料
题名
光刻胶烘培特性研究
被引量:
8
1
作者
李淑红
杜春雷
董小春
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
中国科学院研究生院
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期17-19,24,共4页
文摘
通过研究光刻胶厚度与烘培过程中光敏混合物(PAC)浓度分布的关系,对光刻胶前烘模型进行了修正,得出了光刻胶内 PAC 相对浓度与光刻胶厚度、烘培温度和烘培时间之间的函数关系。设计了求解光刻胶激活能 E0和 Arrhenius 系数 Ar的实验方案,并以 AZ50XT 正型紫外光刻胶为例开展了实验研究。结果表明,对不同厚度的光刻胶,可以通过调整烘培温度或烘培时间达到所需要的 PAC 浓度。
关键词
微光学
光刻胶
前烘模型
特性分析
光敏混合物
Keywords
Micro optics
Photoresist
Pre-baking model
Characteristics analysis
Photoactive compound
分类号
O434.14 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光刻胶烘培特性研究
李淑红
杜春雷
董小春
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
8
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