动、静态RRC工艺效果对比

RRC(Reducing Resist Consumption)在工艺涂覆过程中,经常用作光刻胶溶剂,用来减少光刻胶的使用量,还可以降低光刻胶中包含的微观气泡数量,对后续的显影、刻蚀等工艺具有明显的优化作用。现阶段常用的RRC涂覆方式有两种:一种称为静态RRC,即衬底静止不动;一种称为动态RRC,即衬底以一定速度旋转。通过几组工艺实验,简单对比了静态RRC与动态RRC的工艺效果,以供大家在以后的工艺制程中进行选择和分析使用。