有机硅修饰的剥层水滑石及其对废水中金属离子的吸附(英文)

对剥层的镁铝硝酸根水滑石(Mg2Al-NO3-LDHs)片表面进行了有机硅化合物(N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropyl)tris-(2-ethoxy)silane(KH-791)修饰,并研究了修饰后的水滑石片对废水中Pb2+,Cu2+和Zn2+离子的吸附行为。结果表明:在相同的温度和金属离子浓度条件下,被修饰的水滑石片对Pb2+吸附容量最大,达到378.0 mg.g-1;在以上几种金属离子的混合溶液中,修饰主体材料表现出对Pb2+高度的选择性吸附,对Pb2+吸附容量为85 mg.g-1,而对Zn2+和Cu2+的吸附容量只有30 mg.g-1左右。