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化学机械浆热回收系统设备的研发与应用 |
李建波
袁梦竹
许海燕
辛华
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《中国造纸》
CAS
北大核心
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2024 |
0 |
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2
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化学机械抛光中摩擦润滑与化学行为研究进展 |
霍金向
高宝红
李雯浩宇
贺斌
梁斌
刘鸣瑜
陈旭华
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《应用化工》
CAS
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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3
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化学机械浆漂白生产过程氢氧化钠用量的优化 |
王辉
马小清
张凤山
吴蔚然
周景蓬
马厚悦
刘燕韶
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《中国造纸》
CAS
北大核心
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2024 |
0 |
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4
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碳化硅化学机械抛光中材料去除非均匀性研究进展 |
孙兴汉
李纪虎
张伟
曾群锋
张俊锋
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《人工晶体学报》
CAS
北大核心
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2024 |
0 |
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5
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单晶SiC基片干式摩擦化学机械抛光初探 |
薛明普
肖文
李宗唐
王占奎
苏建修
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《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
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2024 |
0 |
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6
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絮凝沉淀与生物曝气滤池结合处理杨木心材生物化学机械法制浆废水 |
牛虎军
谢益民
罗文琪
周安乡
薛超
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《中国造纸学报》
CAS
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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7
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单晶SiC的化学机械抛光及辅助技术的研究进展 |
张佩嘉
雷红
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《上海大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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8
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氧化剂含量对304不锈钢化学机械抛光的影响 |
季明捷
陈国美
倪自丰
张鑫
郑世坤
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《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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9
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Y^(3+)掺杂二氧化硅磨料的合成及其在氧化锆陶瓷中的化学机械抛光行为 |
代三威
雷红
付继芳
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《上海大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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10
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基于分子动力学的SiC化学机械磨削材料去除机理研究 |
龚福潜
吴柯
朱博恩
章博阳
许荣滨
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《机械制造》
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2024 |
0 |
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11
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单烷基磷酸酯钾盐和烷基糖苷对钴互连化学机械抛光的影响 |
田雨暄
王胜利
罗翀
王辰伟
孙纪元
张国林
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《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
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2024 |
0 |
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12
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化学机械抛光液的研究现状 |
王东哲
张恒飞
付玉
刘茂举
庄锐
蔡颖辉
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《化学世界》
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2024 |
0 |
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13
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环保型缓蚀剂壳寡糖对304不锈钢化学机械抛光的影响 |
张鑫
陈国美
倪自丰
季明捷
郑世坤
卞达
钱善华
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《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析 |
王海
周文
史巍
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《首都师范大学学报(自然科学版)》
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2023 |
1
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三氯化铁-草酸体系不锈钢化学机械抛光液设计与优化 |
王泽宇
彭亚男
苏建修
陈佳鹏
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《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
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2023 |
0 |
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16
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潮湿颗粒电解质电化学机械抛光铜工件的接触特性研究 |
董志刚
程吉瑞
高尚
康仁科
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《航空制造技术》
CSCD
北大核心
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2023 |
0 |
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石英晶片化学机械抛光工艺优化 |
贾玙璠
朱祥龙
董志刚
康仁科
杨垒
高尚
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《微纳电子技术》
CAS
北大核心
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2023 |
1
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18
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TB2钛合金电化学机械抛光试验研究 |
魏颖
房晓龙
曲宁松
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《航空制造技术》
CSCD
北大核心
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2023 |
2
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光电化学机械抛光装置设计 |
张高振
朱祥龙
董志刚
康仁科
赵杨
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《制造技术与机床》
北大核心
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2023 |
1
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壳聚糖在铝低压力化学机械抛光中的钝化作用及抛光行为研究 |
任荣浩
孙平
王永光
丁钊
赵栋
俞泽新
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《材料导报》
CSCD
北大核心
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2023 |
1
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