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集成电路芯片制造中电化学机械平整化技术的研究进展
被引量:
4
1
作者
翟文杰
梁迎春
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第4期498-503,共6页
大马士革(Damascene)结构的Cu/低k介质材料互连技术为集成电路芯片制造提出了方向和挑战。电化学机械平整化(ECMP)作为化学机械平整化(CMP)的一种拓展加工手段,可对传统CMP技术进行补偿,可对含有易损多孔电介质材料的新型互连结构进行...
大马士革(Damascene)结构的Cu/低k介质材料互连技术为集成电路芯片制造提出了方向和挑战。电化学机械平整化(ECMP)作为化学机械平整化(CMP)的一种拓展加工手段,可对传统CMP技术进行补偿,可对含有易损多孔电介质材料的新型互连结构进行低压力平整化。比较了ECMP和CMP的特点,对ECMP技术的研究现状和发展趋势进行了综述。指出ECMP过程控制的深层次的技术基础是摩擦电化学理论,只有深入系统地研究ECMP过程中的外加电势、摩擦磨损、化学反应三者间的相互作用,才能揭示ECMP过程中材料的加速去除原理和超光滑无损伤表面的形成机理。
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关键词
电
化学机械平整化
(ECMP)
低K介质
Cu大马士革互连
摩擦电
化学
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职称材料
电压对铜电化学机械平整化性能影响的实验研究
2
作者
闫茂振
翟文杰
+1 位作者
孙素梅
欧阳勇
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第1期51-55,60,共6页
在质量分数30%有机膦酸(HEDP)和0.02 mol/L苯骈三氮唑(BTA)电解液中,模拟实验研究静、动态下电压对铜的电化学机械平整化材料去除率和表面质量的影响规律。实验结果表明,铜在30%HEDP+0.02 mol/L BTA电解液中的钝化电压区间为0.2~1.1 V...
在质量分数30%有机膦酸(HEDP)和0.02 mol/L苯骈三氮唑(BTA)电解液中,模拟实验研究静、动态下电压对铜的电化学机械平整化材料去除率和表面质量的影响规律。实验结果表明,铜在30%HEDP+0.02 mol/L BTA电解液中的钝化电压区间为0.2~1.1 V,当阳极电势为0.5 V时,BTA的腐蚀抑制效率接近90%;静、动态下铜的材料去除率均随施加电压的增大而增大,但施加电压过大,铜表面出现腐蚀坑;在不降低表面质量的前提下,当外界施加电压0.5 V时,能较好地平衡电化学作用与机械作用,达到较高的材料去除率。
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关键词
电
化学机械平整化
材料去除率
表面质量
化学
作用
机械
作用
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职称材料
用于量子电压基准中约瑟夫森结阵列的CMP平整化工艺研究
被引量:
2
3
作者
赵欣
曹文会
李劲劲
《计量学报》
CSCD
北大核心
2022年第3期412-415,共4页
化学机械平坦化(chemical mechanical planarization,CMP)工艺处理SiO_(2)绝缘层是一种获得高度集成化超导电路的关键技术,尤其适合于多层堆叠约瑟夫森结阵列器件的平整化。设计了应用于热氧化生长的SiO_(2)薄膜和化学气象沉积生长的SiO...
化学机械平坦化(chemical mechanical planarization,CMP)工艺处理SiO_(2)绝缘层是一种获得高度集成化超导电路的关键技术,尤其适合于多层堆叠约瑟夫森结阵列器件的平整化。设计了应用于热氧化生长的SiO_(2)薄膜和化学气象沉积生长的SiO_(2)薄膜的CMP工艺,得出两种薄膜的抛光速率分别为2 nm/s和3 nm/s,晶圆的全局材料去除高度差均在20 nm以内。并将CMP工艺应用到约瑟夫森结阵列的制作流程,结单元结构AFM高度轮廓扫描显示台阶高度由240 nm减小到约25 nm,其上的SiO_(2)绝缘层2×2μm^(2)区域内的表面粗糙度为0.535 nm,提供了后续器件制备所需的工艺窗口。
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关键词
计量学
约瑟夫森结阵列
化学机械平整化
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职称材料
题名
集成电路芯片制造中电化学机械平整化技术的研究进展
被引量:
4
1
作者
翟文杰
梁迎春
机构
哈尔滨工业大学
出处
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第4期498-503,共6页
文摘
大马士革(Damascene)结构的Cu/低k介质材料互连技术为集成电路芯片制造提出了方向和挑战。电化学机械平整化(ECMP)作为化学机械平整化(CMP)的一种拓展加工手段,可对传统CMP技术进行补偿,可对含有易损多孔电介质材料的新型互连结构进行低压力平整化。比较了ECMP和CMP的特点,对ECMP技术的研究现状和发展趋势进行了综述。指出ECMP过程控制的深层次的技术基础是摩擦电化学理论,只有深入系统地研究ECMP过程中的外加电势、摩擦磨损、化学反应三者间的相互作用,才能揭示ECMP过程中材料的加速去除原理和超光滑无损伤表面的形成机理。
关键词
电
化学机械平整化
(ECMP)
低K介质
Cu大马士革互连
摩擦电
化学
Keywords
electro- chemical mechanical planarization (ECMP)
low- k dielectric
Cu Damascene interconnects
tribo- electrochemistry
分类号
TH117.2 [机械工程—机械设计及理论]
TG115.5 [金属学及工艺—物理冶金]
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职称材料
题名
电压对铜电化学机械平整化性能影响的实验研究
2
作者
闫茂振
翟文杰
孙素梅
欧阳勇
机构
中国工程物理研究院总体工程研究所
哈尔滨工业大学机电工程学院
出处
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第1期51-55,60,共6页
基金
国家自然科学基金项目(50975058)
文摘
在质量分数30%有机膦酸(HEDP)和0.02 mol/L苯骈三氮唑(BTA)电解液中,模拟实验研究静、动态下电压对铜的电化学机械平整化材料去除率和表面质量的影响规律。实验结果表明,铜在30%HEDP+0.02 mol/L BTA电解液中的钝化电压区间为0.2~1.1 V,当阳极电势为0.5 V时,BTA的腐蚀抑制效率接近90%;静、动态下铜的材料去除率均随施加电压的增大而增大,但施加电压过大,铜表面出现腐蚀坑;在不降低表面质量的前提下,当外界施加电压0.5 V时,能较好地平衡电化学作用与机械作用,达到较高的材料去除率。
关键词
电
化学机械平整化
材料去除率
表面质量
化学
作用
机械
作用
Keywords
electrochemical mechanical planarization
material removal rate
surface quality
electrochemical action
mechanical action
分类号
TH117 [机械工程—机械设计及理论]
下载PDF
职称材料
题名
用于量子电压基准中约瑟夫森结阵列的CMP平整化工艺研究
被引量:
2
3
作者
赵欣
曹文会
李劲劲
机构
中国计量科学研究院前沿计量科学中心
出处
《计量学报》
CSCD
北大核心
2022年第3期412-415,共4页
基金
国家重点研发计划(2018YFB2003401)。
文摘
化学机械平坦化(chemical mechanical planarization,CMP)工艺处理SiO_(2)绝缘层是一种获得高度集成化超导电路的关键技术,尤其适合于多层堆叠约瑟夫森结阵列器件的平整化。设计了应用于热氧化生长的SiO_(2)薄膜和化学气象沉积生长的SiO_(2)薄膜的CMP工艺,得出两种薄膜的抛光速率分别为2 nm/s和3 nm/s,晶圆的全局材料去除高度差均在20 nm以内。并将CMP工艺应用到约瑟夫森结阵列的制作流程,结单元结构AFM高度轮廓扫描显示台阶高度由240 nm减小到约25 nm,其上的SiO_(2)绝缘层2×2μm^(2)区域内的表面粗糙度为0.535 nm,提供了后续器件制备所需的工艺窗口。
关键词
计量学
约瑟夫森结阵列
化学机械平整化
Keywords
metrology
Josephson junction array
CMP
分类号
TB97 [机械工程—测试计量技术及仪器]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
集成电路芯片制造中电化学机械平整化技术的研究进展
翟文杰
梁迎春
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
4
下载PDF
职称材料
2
电压对铜电化学机械平整化性能影响的实验研究
闫茂振
翟文杰
孙素梅
欧阳勇
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
2013
0
下载PDF
职称材料
3
用于量子电压基准中约瑟夫森结阵列的CMP平整化工艺研究
赵欣
曹文会
李劲劲
《计量学报》
CSCD
北大核心
2022
2
下载PDF
职称材料
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