1
|
碳化硅化学机械抛光中材料去除非均匀性研究进展 |
孙兴汉
李纪虎
张伟
曾群锋
张俊锋
|
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
|
2024 |
0 |
|
2
|
单晶SiC基片干式摩擦化学机械抛光初探 |
薛明普
肖文
李宗唐
王占奎
苏建修
|
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
|
2024 |
0 |
|
3
|
Y^(3+)掺杂二氧化硅磨料的合成及其在氧化锆陶瓷中的化学机械抛光行为 |
代三威
雷红
付继芳
|
《上海大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
|
2024 |
0 |
|
4
|
单晶SiC的化学机械抛光及辅助技术的研究进展 |
张佩嘉
雷红
|
《上海大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
|
2024 |
0 |
|
5
|
化学机械抛光中摩擦润滑与化学行为研究进展 |
霍金向
高宝红
李雯浩宇
贺斌
梁斌
刘鸣瑜
陈旭华
|
《应用化工》
CAS
CSCD
北大核心
|
2024 |
0 |
|
6
|
单烷基磷酸酯钾盐和烷基糖苷对钴互连化学机械抛光的影响 |
田雨暄
王胜利
罗翀
王辰伟
孙纪元
张国林
|
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
|
2024 |
0 |
|
7
|
环保型缓蚀剂壳寡糖对304不锈钢化学机械抛光的影响 |
张鑫
陈国美
倪自丰
季明捷
郑世坤
卞达
钱善华
|
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
|
2024 |
0 |
|
8
|
氧化剂含量对304不锈钢化学机械抛光的影响 |
季明捷
陈国美
倪自丰
张鑫
郑世坤
|
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
|
2024 |
0 |
|
9
|
化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析 |
王海
周文
史巍
|
《首都师范大学学报(自然科学版)》
|
2023 |
1
|
|
10
|
潮湿颗粒电解质电化学机械抛光铜工件的接触特性研究 |
董志刚
程吉瑞
高尚
康仁科
|
《航空制造技术》
CSCD
北大核心
|
2023 |
0 |
|
11
|
石英晶片化学机械抛光工艺优化 |
贾玙璠
朱祥龙
董志刚
康仁科
杨垒
高尚
|
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
|
2023 |
1
|
|
12
|
TB2钛合金电化学机械抛光试验研究 |
魏颖
房晓龙
曲宁松
|
《航空制造技术》
CSCD
北大核心
|
2023 |
2
|
|
13
|
壳聚糖在铝低压力化学机械抛光中的钝化作用及抛光行为研究 |
任荣浩
孙平
王永光
丁钊
赵栋
俞泽新
|
《材料导报》
CSCD
北大核心
|
2023 |
1
|
|
14
|
光电化学机械抛光装置设计 |
张高振
朱祥龙
董志刚
康仁科
赵杨
|
《制造技术与机床》
北大核心
|
2023 |
1
|
|
15
|
高端电子制程中钴化学机械抛光剂的研究进展(Ⅰ)──氧化剂 |
段欣雨
万传云
吴兆键
倪哲易
王浩宇
|
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
|
2023 |
1
|
|
16
|
哑铃形氧化硅磨粒的制备及其化学机械抛光性能 |
董越
雷红
刘文庆
|
《上海大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
|
2023 |
0 |
|
17
|
工艺参数对化学机械抛光磷锗锌晶体表面粗糙度的影响 |
聂清清
付思源
梅斌
孙守利
阳红
|
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
|
2023 |
0 |
|
18
|
A向蓝宝石晶片化学机械抛光研究 |
陈国美
陈凤
倪自丰
白亚雯
|
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
|
2023 |
0 |
|
19
|
光刻与化学机械抛光技术原位集成制备SU-8微透镜阵列 |
张清泽
吴永进
马闯北
石现
孙云娜
丁桂甫
|
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
|
2023 |
0 |
|
20
|
碲锌镉衬底的化学机械抛光液研究 |
王琰璋
岳晓辉
李振兴
柏伟
侯晓敏
|
《红外》
CAS
|
2023 |
0 |
|