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MEMS压力传感器上柔性化凸点制备方法
被引量:
1
1
作者
谯锴
吴懿平
吴丰顺
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期19-22,共4页
介绍了一种适用于MEMS压力传感器的低成本、柔性化凸点下金属层(Under Bump Metal,UBM)和凸点(Bump)的制备工艺。其中凸点下金属层分为Ni-P/Cu两层,使用化学镀的方法沉积在Al焊盘表面;凸点通过焊膏印刷回流预制于陶瓷基片上,再通过转移...
介绍了一种适用于MEMS压力传感器的低成本、柔性化凸点下金属层(Under Bump Metal,UBM)和凸点(Bump)的制备工艺。其中凸点下金属层分为Ni-P/Cu两层,使用化学镀的方法沉积在Al焊盘表面;凸点通过焊膏印刷回流预制于陶瓷基片上,再通过转移工艺移植到焊盘上。为了检验此套工艺制出的凸点结构是否具有足够的强度,对凸点进行了剪切破坏试验。结果表明,凸点与凸点下金属层、凸点下金属层与Al焊盘均结合牢固,破坏主要发生在焊料凸点内最薄弱的金属间化合物层(Intermetallic Compound,IMC)。
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关键词
化学镀制备凸点下金属层
凸
点
制备
与转移
压力传感器
下载PDF
职称材料
题名
MEMS压力传感器上柔性化凸点制备方法
被引量:
1
1
作者
谯锴
吴懿平
吴丰顺
机构
华中科技大学材料学院
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期19-22,共4页
基金
"863"计划资助项目(2002AA404110)
文摘
介绍了一种适用于MEMS压力传感器的低成本、柔性化凸点下金属层(Under Bump Metal,UBM)和凸点(Bump)的制备工艺。其中凸点下金属层分为Ni-P/Cu两层,使用化学镀的方法沉积在Al焊盘表面;凸点通过焊膏印刷回流预制于陶瓷基片上,再通过转移工艺移植到焊盘上。为了检验此套工艺制出的凸点结构是否具有足够的强度,对凸点进行了剪切破坏试验。结果表明,凸点与凸点下金属层、凸点下金属层与Al焊盘均结合牢固,破坏主要发生在焊料凸点内最薄弱的金属间化合物层(Intermetallic Compound,IMC)。
关键词
化学镀制备凸点下金属层
凸
点
制备
与转移
压力传感器
Keywords
UBM prepaared by electroless plating process
bump fabrication and placement
pressure sensor
分类号
TG113 [金属学及工艺—物理冶金]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
MEMS压力传感器上柔性化凸点制备方法
谯锴
吴懿平
吴丰顺
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2004
1
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职称材料
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