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化学镀银板剥银后铜面产生微空洞的研究
被引量:
1
1
作者
邱成伟
覃事杭
+1 位作者
李小海
王晓槟
《印制电路信息》
2020年第1期56-59,共4页
化学皱银工艺已经成为印制电路板主要的最终表面处理方式之一,在制程中化银板的主要报废有腐蚀、露铜、离子污染、微空洞。文章重点研究泊是在剥离银后,铜面微空洞的产生原因和预防控制手段。
关键词
剥离银
微空洞
化学镀银板
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职称材料
题名
化学镀银板剥银后铜面产生微空洞的研究
被引量:
1
1
作者
邱成伟
覃事杭
李小海
王晓槟
机构
惠州中京电子科技有限公司
出处
《印制电路信息》
2020年第1期56-59,共4页
文摘
化学皱银工艺已经成为印制电路板主要的最终表面处理方式之一,在制程中化银板的主要报废有腐蚀、露铜、离子污染、微空洞。文章重点研究泊是在剥离银后,铜面微空洞的产生原因和预防控制手段。
关键词
剥离银
微空洞
化学镀银板
Keywords
Silver Stripping
Micro-Voids
Silver Plate
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
化学镀银板剥银后铜面产生微空洞的研究
邱成伟
覃事杭
李小海
王晓槟
《印制电路信息》
2020
1
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