化学镀Ni-Co-P合金对贮氢电极电化学性能的影响

研究了化学镀Ni Co P镀层对贮氢合金电极性能的影响。研究表明 ,引入 1 .74%Co的Ni Co P合金镀层可有效地提高负极贮氢合金活性物质的利用率 ,MH电极的活化性能得到明显改善 ,初次放电容量即达到 2 0 8mA·h/g、最大放电容量达 2 95.8mA·h/g ;同时循环寿命亦有所提高 ,化学镀Ni Co P合金的贮氢电极在进行 1 0 0次循环充放后 ,电容量的保持率为 88% ,而未镀贮氢电极电容量衰减至 62 %。镀Ni Co P合金电极容量的增加 ,主要是由于Co氧化电流和微电流集流效率改善双重作用的结果。化学镀后贮氢合金的抗粉化和抗氧化能力得以改善 ,使得MH电极在自放电性能上有较大改进 ,不可逆部分的容量损失由 2 3.2mA·h/g降到了 3.6mA·h/g。借助于SEM和XRD分析了化学镀Ni Co P合金对MH电极性能改善的影响机理。

工艺参数对紫铜化学镀Ni-Co-P合金镀层耐蚀性的影响

以提高紫铜的耐蚀性为目标,研究了温度和施镀时间对以紫铜为基体的化学镀Ni-Co-P合金镀层的微观结构和耐蚀性的影响。结果表明:当温度为75〜90°C时,化学镀Ni-Co-P合金镀层都呈现典型的胞状形貌特征,随着温度的升高,胞状物的数量减少,直径增大;随着施镀时间的延长,化学镀Ni-Co-P合金镀层表面胞状物聚集成团的现象减少;当温度为85〜90°C、施镀时间为60〜80 min时,化学镀Ni-Co-P合金镀层在质量分数为3.5%的NaCl溶液和质量分数为10%的NaOH溶液中的腐蚀速率都较低,其耐蚀性明显优于紫铜的耐蚀性.

镁合金表面化学镀Ni-Co-P合金的研究

通过优化正交试验法研究了镁合金表面化学镀Ni-Co-P合金工艺。讨论了几种因素对沉积速度的影响。采用显微硬度测试、扫描电镜(SEM)、X射线能谱分析手段比较研究了Ni-Co-P与Ni-P镀层性能及化学成分。结果表明,Co2+的加入有利于化学镀层的沉积,但使镀层硬度下降;配位剂采用30 g/L柠檬酸钠时沉积速率最快;适量的香豆素可以提高镀速并使镀层更光亮。Ni-Co-P镀层表面较Ni-P镀层具有较好的耐腐蚀性能,结合力良好。

工艺条件对化学镀Ni-Co-P合金的影响

采用硼酸为缓冲剂 ,柠檬酸钠为络合剂化学镀Ni Co P合金。考察了镀液pH值、钴离子浓度和温度对化学镀Ni Co P沉积速度的影响 ;研究了钴离子浓度对镀层组成的影响 ,获得了化学镀Ni Co P合金的最佳工艺条件为 :镀液pH值为 7.0 ,操作温度 90℃ ,CoSO4 ·7H2 O浓度为 11g/L。此工艺下镀液稳定性好 ,镀层沉积速度快 ;所得镀层为非晶结构。

NdFeB磁体表面化学镀Ni-Co-P合金及其耐腐蚀性能研究

采用化学镀方法制备Ni-Co-P三元合金镀层以改善NdFeB磁体的耐腐蚀性能。优化了镀液配方以及施镀工艺,研究了镀液pH值和金属离子配比([Co2+]/[Ni2++Co2+])对沉积速度和镀层成分的影响,测量了NdFeB基体和不同镀层在3.5%(质量分数,下同)NaCl溶液中的极化曲线。结果表明,随镀液pH值增加,沉积速度提高,镀层中Co含量升高,Ni含量和P含量逐渐降低;随镀液中Co2+比例增加,沉积速度下降,镀层中Co含量升高,Ni和P含量降低。化学镀Ni-Co-P合金后的NdFeB磁体在3.5%NaCl溶液中的腐蚀速度降低了约两个数量级;当镀液金属离子配比[Co2+]/[Ni2++Co2+]=0.3时,镀层耐腐蚀性能最好,且优于相同施镀条件下所得到的Ni-P镀层。

空心微珠表面化学镀Ni-Co-P合金镀层研究

用化学镀的方法将空心微珠改性,使它具有电、磁等性能,是拓宽空心微珠应用领域的一种新方法。以AgNO_3代替常见的贵金属盐PdCl_2为活化剂,在空心微珠表面化学镀Ni-Co-P合金镀层,用X射线衍射仪、能谱仪和扫描电镜对其进行了分析表征。结果表明,以AgNO_3活化剂代替常用的PdCl_2活化剂,可在空心微珠表面得到Ni-Co-P合金镀层,同时分析了以AgNO_3代替常用的PdCl_2活化剂制备Ni-Co-P合金镀层的形成机理。本方法能改善Ni-Co-P合金镀层的性能,成本低,具有良好的应用前景。

化学镀Ni-Co-P合金工艺对其镀层性能的影响

为了改善化学镀Ni-Co-P合金工艺存在的镀速慢、镀层腐蚀性能差等问题,研究了镀液组分、pH值、温度、转速、表面活性剂、稳定剂对化学镀Ni-Co-P合金镀层沉积速度、腐蚀速度、腐蚀电位、镀层厚度、点蚀率、表面形貌、硬度和镀层结合力的影响,得出最佳镀液配方和工艺:CoSO414 g/L;NiSO49 g/L;NaH2PO218 g/L;Na3C6H5O750 g/L;(NH4)2SO460 g/L;KIO38 mg/L;十二烷基苯磺酸钠50 mg/L;pH值9.0;温度80℃;转速60 r/min。

玻璃纤维化学镀Ni-Co-P合金工艺的研究

研究了玻璃纤维表面化学镀NiCoP合金镀液中主要成分间的摩尔比、pH值、温度以及施镀时间等工艺参数对化学沉积NiCoP合金镀层成分及镀速的影响。结果表明:最佳的施镀温度为50℃,pH值为9～10,镀液中各主要成分间最佳摩尔比为Co2+(Ni2++Co2+)=0.45,H2PO-2(Ni2++Co2+)≤2.6,Na3C6H5O7(Ni2++Co2+)=1.5,Na3C6H5O7NH+4=0.4。用X射线能谱仪和扫描电镜对镀层进行了分析和表征,在最佳工艺条件下,镀液的稳定性高、镀速快、镀层外观较好。

化学镀Ni-Co-P合金的初期沉积行为

用特殊制样手段在TEM上直接观察镍钴磷合金化学沉积的初期形貌。结果表明 ,化学沉积的初期沉积过程具有明显的择优倾向和不均匀性。原子并非以单个原子的形式沉积于基体表面 ,而是还原后的原子在固 液界面处首先形成原子团 ,然后在基体表面的高能量区域优先沉积。随着时间的延长 ,沉积晶粒的长大倾向并不明显 ,而是以沉积颗粒逐步链状联结的方式扩展 ,直至覆盖整个基体表面。

空心微珠表面化学镀Ni-Co-P合金

以无机非金属粉煤灰空心微珠为芯材,利用化学镀工艺对其表面进行金属化改性,可以得到表面完整包覆的导电粉体,该粉体具有中空,质轻,粒度细,高强度,耐高温,导电性能好等多种优异性能,可部分代替金属和铁氧体微粉作为电磁波吸收剂.采用SnCl2和PdCl2进行敏化-活化处理后,在空心微珠表面化学包覆Ni-Co-P合金层,利用XRD、EDS、SEM和镶嵌金相等方法对样品进行形貌观察和分析表征,结果表明,使用PdCl2作活化剂可以得到优质均匀的Ni-Co-P合金镀层,镀层光亮,均匀,包覆完整.化学镀后镀层呈非晶态,450℃氢气气氛下热处理后出现结晶相Ni3P和六方晶系的!-Co单质.

化学镀Ni-Co-P合金对Mm(NiCoAlMn)_5贮氢合金电极动力学性能的影响

通过电化学方法 ,研究了化学镀Ni Co P合金对Mm(NiCoAlMn) 5 五元稀土贮氢合金电极动力学性能的影响。研究表明 ,引入很少量(1%～ 2 % )Co的Ni Co P合金镀层可有效地提高MH电极的交换电流密度i0 、极限电流密度iL 及α相中氢的扩散系数Dα(H ) ;还研究了化学镀Ni Co P合金对稀土贮氢合金电极循环伏安 (CV)曲线和阴、阳极极化曲线及对称因子 β的影响 。

化学镀Ni-Co-P合金的工艺控制因素

通过正交实验得到一组较好的化学镀Ni-Co-P配方,在此基础上讨论了主盐浓度比、pH值和温度等控制因素对沉积速度和镀层性能的影响。获得了一种性能良好、经济、实用的化学镀镍钴磷合金工艺配方。

铝合金上化学镀Ni-Co-P合金工艺及镀层性能的初步研究

研究了铝硅合金基体化学镀Ni-Co-P镀层的工艺对镀层性能的影响。通过正交试验,得出镀液pH值、硫酸镍、硫酸钴以及次磷酸钠的含量对镀层厚度、硬度和成分的影响规律,发现增大镀液pH值和增加硫酸镍含量、次磷酸钠含量适中、降低硫酸钴含量,有利于增加镀层膜厚;增大镀液pH值、硫酸镍和次磷酸钠含量适中、降低硫酸钴含量,有利于提高镀层硬度。

化学镀Ni-Co-P合金工艺研究

为了改善化学镀Ni-Co-P合金工艺存在的镀速慢、镀层质量差等问题,研究了镀液组分、表面活性剂、pH值、稳定剂、配位剂对化学镀Ni-Co-P合金镀层沉积速度、耐蚀性、孔蚀率的影响,得出最佳镀液配方和工艺:26 g/L CoSO4,28 g/L N iSO4,22 g/L NaH2PO2,80 g/L Na3C6H5O7,69 g/L(NH4)2SO4,1 mg/L KI,50 mg/L十二烷基苯磺酸钠,pH=8,温度85℃。本研究结果为化学镀N i-Co-P合金工艺提供了依据,较有实用价值。

片状石墨表面化学镀Ni-Co-P合金的制备及其吸波性能

采用化学镀工艺在片状石墨表面镀覆一层Ni-Co-P合金,对包覆后的样品进行了扫描电子显微观察(SEM)、X射线衍射分析、磁性能及吸波性能表征。结果表明,石墨表面沉积的镀层完整致密,以非晶态为主,且得到的镀Ni-Co-P石墨具有一定的磁性。矢量网络分析仪测试了样品在0.1～14 GHz频率范围内的复介电常数(ε=ε'-jε″)和复磁导率(μ=μ'-jμ″),用吸收屏理论公式计算了反射率损耗(R.L),得到当匹配厚度为5 mm时,镀Ni-Co-P石墨的最大吸收峰值约为-9.1 dB,超过-5 dB的频宽达4.2 GHz,是一种比较理想的新型复合吸波材料。

沉积时间和钴盐含量对化学镀Ni-Co-P合金电磁屏蔽效能的影响

为了使PVC材料具备电磁屏蔽性能,利用化学镀工艺在PVC基材表面制备了Ni-Co-P合金镀层。利用网络分析仪测量法对镀层的电磁屏蔽效能进行测试,研究了不同沉积时间和钴盐含量对合金镀层电磁屏蔽性能的影响。结果表明:随着沉积时间的增加,镀层电磁屏蔽效能逐渐增加,当沉积时间超过60min之后,镀层的电磁屏蔽效能增加不再明显;而硫酸钴含量的变化对镀层电磁屏蔽效能的影响不明显,这可能是由于钴比镍难还原,含钴镀层的形成比较缓慢,当沉积时间一定时,改变镀液中硫酸钴的含量对镀层沉积速度影响不大所致。

镁合金化学镀Ni-Co-P合金镀层的研究

在AZ31B镁合金表面化学镀Ni-Co-P合金镀层。通过正交试验研究了制备Ni-Co-P合金镀层的镀液配方及工艺条件。得出最佳镀液配方及工艺条件为:硫酸镍25g/L,硫酸钴25g/L,次磷酸钠22g/L,柠檬酸三钠70g/L,氟化铵40g/L,碘化钾0.001g/L,十二烷基苯磺酸钠0.05g/L,pH值8.0,温度80℃,时间2h。采用最佳的镀液配方及工艺条件,沉积速率较快,制备的Ni-Co-P合金镀层表面形貌较好,与基材结合较牢,耐蚀性较好。

溶液pH值对化学镀Ni-Co-P合金的影响

在化学镀中镀液的ｐＨ值不仅影响施镀过程的沉积速度，而且还将直接影响镀层成分及镀层性能。着重研究了溶液ｐＨ值对化学镀Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ的影响，比较了化学镀Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ和Ｎｉ－Ｐ镀层的性能，以及热处理对镀层性能的影响。

还原剂对铝表面化学镀Ni-Co-P合金耐腐蚀性能的影响

研究镀液中还原剂浓度对铝表面化学镀Ni-Co-P合金性能的影响。运用增重法分析了浓度对镀速的影响;采用JSM-5610LV型扫描电镜、能谱仪、CHI660C型电化学工作站研究化学镀Ni-Co-P合金的表面形貌、微观成分和耐腐蚀性能。结果表明,镀液中还原剂浓度为30 g/L时,镀速最大,镀层均匀、紧凑、细小,镀层的镍、钴含量适中,耐腐蚀性较好。

电厂不锈钢换热管化学镀Ni-Co-P合金镀层及其耐点蚀性能

采用优化的化学镀液配方和工艺条件,在不锈钢管外表面制备了非晶态的化学镀Ni-Co-P合金镀层。通过浸泡腐蚀试验和电化学腐蚀试验,比较了不锈钢管和化学镀Ni-Co-P管的耐点蚀性能。结果表明:在5.0%的盐酸溶液和酸性氯化钠溶液中,化学镀Ni-Co-P管的平均腐蚀速率明显低于不锈钢管的平均腐蚀速率;在3.5%的氯化钠溶液中,化学镀Ni-Co-P合金镀层的电荷转移电阻较大(约为2.13×10^4Ω·cm^2),较不锈钢表现出更好的耐点蚀性能。