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化学隔离抑爆系统在纺织行业的应用
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作者 石建中 汪秀清 王正纲 《武汉纺织大学学报》 2011年第6期37-39,共3页
介绍化学隔离抑爆系统的工作原理及其基本组成,以及典型的化学隔离抑爆系统产品,探讨在纺织行业化学隔离抑爆系统的安装位置。指出设备安装化学隔离抑爆系统后,不仅可预防和抑制其爆炸的发生,而且可以降低对其强度的要求,从而节省设备... 介绍化学隔离抑爆系统的工作原理及其基本组成,以及典型的化学隔离抑爆系统产品,探讨在纺织行业化学隔离抑爆系统的安装位置。指出设备安装化学隔离抑爆系统后,不仅可预防和抑制其爆炸的发生,而且可以降低对其强度的要求,从而节省设备的经济投入。最后,为更全面更安全的保护过程设备,建议化学隔离抑爆系统应与更多的保护方案组合使用。 展开更多
关键词 化学隔离 抑爆 纺织 应用
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有害植物金钟藤的隔离带式化学控制研究初报 被引量:6
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作者 乔保勇 李鸣光 +3 位作者 粟娟 王玥 孙云 钟填奎 《亚热带资源与环境学报》 2009年第3期7-14,共8页
有害植物治理是生态学面临的重要难题.为控制危害广州市龙眼洞林场的大型木质藤本金钟藤(Merremia boisiana van Ooststr),本研究进行了治理技术的探索.通过比较大面积化学除莠、人工清除和隔离带式化学控制3种方法对金钟藤及环境的影响... 有害植物治理是生态学面临的重要难题.为控制危害广州市龙眼洞林场的大型木质藤本金钟藤(Merremia boisiana van Ooststr),本研究进行了治理技术的探索.通过比较大面积化学除莠、人工清除和隔离带式化学控制3种方法对金钟藤及环境的影响,阐明了各种方法的利与弊.大面积化学除莠和人工清除虽能清除金钟藤,但都造成了地表长期大面积裸露,从而引起严重的水土流失,同时前者还引起环境污染.隔离带式化学控制既能在较长时期内有效遏制金钟藤的扩散,为林地由外到内恢复创造条件,又避免了水土流失.隔离带式化学控制试用了斩荒(草甘膦-乙羧氟草醚混剂)、国产草甘膦、农达、2-甲-4-氯4种农药,综合控制效果以斩荒最优,有效控制时间180 d以上,第180 d对地上部分、绿枝条和老茎鲜重的抑制率分别为85.8%、99.7%和70.0%,明显高于单一使用草甘膦.国产草甘膦与进口农达无显著差异.金钟藤老茎占地上部分近一半的鲜重,老茎受抑制率低、抗药性强,是金钟藤抗除草剂能力强的主要原因. 展开更多
关键词 金钟藤 隔离带式化学控制 草甘膦-乙羧氟草醚混剂
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隔离液合理选材设计以改善与水泥浆相容性实验探索 被引量:16
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作者 李静 郭小阳 +2 位作者 杨香艳 邓生辉 田咏 《钻井液与完井液》 CAS 北大核心 2007年第4期43-46,共4页
针对目前普遍存在隔离液产品与水泥浆相容性差的难题,实验从物理化学角度,分析了影响隔离液、钻井液与水泥浆化学接触污染的本质原因。为了抑制这种化学接触污染,研究了隔离液各组分对其与水泥浆相容性的影响,并对影响机理进行了探索,... 针对目前普遍存在隔离液产品与水泥浆相容性差的难题,实验从物理化学角度,分析了影响隔离液、钻井液与水泥浆化学接触污染的本质原因。为了抑制这种化学接触污染,研究了隔离液各组分对其与水泥浆相容性的影响,并对影响机理进行了探索,提出了隔离液合理选材设计以改善相容性的一些措施:包括配制隔离液应优选造浆率低的黏土,并在保证浆体悬浮稳定性的同时尽量降低黏土的含量;控制好高聚物增黏剂的加量,复配低分子量增黏剂一起使用;从胶体化学结构上分析,应避免使用抗盐性较好的材料。 展开更多
关键词 隔离液水泥浆物理化学兼容性 污染
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免机耕防火隔离带技术在森林草原的应用研究 被引量:9
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作者 南海涛 刘礴霏 宋来萍 《森林工程》 2013年第5期73-75,共3页
介绍目前3种较先进的免机耕防火隔离带技术,对防火隔离带在森林草原应用的可行性和局限性进行探讨。得出结论:森林草原防火剂隔离带使用方法简单,不破坏植被,对环境友好,但是防火剂也因喷洒工作量大,造价较高,影响大面积使用;生物防火... 介绍目前3种较先进的免机耕防火隔离带技术,对防火隔离带在森林草原应用的可行性和局限性进行探讨。得出结论:森林草原防火剂隔离带使用方法简单,不破坏植被,对环境友好,但是防火剂也因喷洒工作量大,造价较高,影响大面积使用;生物防火林带是典型的绿色防火方法,但是需要选择树种、对林地进行抚育管理等措施比较繁琐;化学除草剂隔离带使用方法简单、成本低,适合大面积应用,但是由于对环境的负面影响较大,使用时需要谨慎。 展开更多
关键词 免机耕 森林草原防火 隔离 生物防火林带 化学除草剂隔离
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水平井分段压裂专利分析 被引量:1
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作者 王飞 《科技与创新》 2018年第11期80-81,共2页
从专利分析的角度对国内外水平井分段压裂技术进行统计分析,通过对专利申请量年度发展趋势、地域分布、重点申请人等方面信息的分析,以期反映水平井分段压裂技术领域的技术状况和发展趋势,为国内相关企业开辟新的研发方向提供技术参考。
关键词 分段压裂技术 机械封隔分段压裂技术 水力喷砂压裂技术 化学隔离分段技术
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油田污水回注井下综合防腐技术应用 被引量:6
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作者 于燕 《中外能源》 CAS 2007年第6期59-61,共3页
介绍了回注污水腐蚀井下油套管的作用机理,确定了内涂层防腐油管+机械卡封隔离防腐(或化学软密封隔离防腐)工艺的综合防腐措施。通过氢渗试验确定最佳的内涂层防腐油管为热固化环氧粉末喷涂油管,介绍了机械卡封隔离防腐工艺、化学软密... 介绍了回注污水腐蚀井下油套管的作用机理,确定了内涂层防腐油管+机械卡封隔离防腐(或化学软密封隔离防腐)工艺的综合防腐措施。通过氢渗试验确定最佳的内涂层防腐油管为热固化环氧粉末喷涂油管,介绍了机械卡封隔离防腐工艺、化学软密封隔离防腐工艺的原理、特点、技术要求等。利用综合防腐技术进行了现场应用,效果良好。 展开更多
关键词 污水回注 防腐 油管 机械卡封隔离 化学软密封隔离防腐
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Infrared Spectra and Theoretical Calculations of BS2 and BS2-: Strong Pseudo Jahn-Teller Effect
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作者 赵杰 俞文杰 +1 位作者 黄腾飞 王雪峰 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2017年第6期678-684,I0002,共8页
Laser ablated boron atoms have been reacted with hydrogen sulfide and the reaction products condensed with argon at 4 K, which gave BS2, BS2-, HSBS, and HBS molecules. Reagent isotopic substitution (H2S, H234S, D2S, ... Laser ablated boron atoms have been reacted with hydrogen sulfide and the reaction products condensed with argon at 4 K, which gave BS2, BS2-, HSBS, and HBS molecules. Reagent isotopic substitution (H2S, H234S, D2S, 10 B, 11B) and variation of boron and hydrogen sulfide concentrations have been used to identify the major products. Both BS2-- and BS2 were identified as linear molecules with no significant difference in the structure parameters, but the B-S anti-symmetric stretching vibration of BS2 is significantly lower than that of BS2-, which is ascribed to pseudo Jahn-Teller effect. Theoretical calculation was employed to have an insight into the interaction nature of the bonds in the corresponding products. 展开更多
关键词 Matrix isolation Pseudo Jahn-Teller effect Multicenter bond
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一种改善内部高速振荡器低温良率的工艺方法
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作者 魏代龙 《中国集成电路》 2022年第6期74-77,共4页
MCU芯片内部高速振荡器(HRC)的低温度敏感性对其在控制领域的应用至关重要,通过优化晶圆制造工艺来降低温度敏感性提升良率具有重要的意义。通常晶圆上有源区的图形密度差异会引起大块浅沟槽隔离区域的碟形化,在后续的多晶硅蚀刻步骤中... MCU芯片内部高速振荡器(HRC)的低温度敏感性对其在控制领域的应用至关重要,通过优化晶圆制造工艺来降低温度敏感性提升良率具有重要的意义。通常晶圆上有源区的图形密度差异会引起大块浅沟槽隔离区域的碟形化,在后续的多晶硅蚀刻步骤中引入有源区损伤,进而使器件的实际电性参数偏离预期值,最后使低温条件下HRC频率精度降低。本文通过在晶圆的制作工艺中,增加浅沟槽隔离化学机械研磨步骤后氮化硅剩余厚度来减少大块浅沟槽隔离区域的碟形化,同时在多晶硅光刻步骤中减少抗反射涂层厚度去改善抗反射涂层厚度的均一性,最后在多晶硅蚀刻步骤中相应的减少蚀刻时间去避免过蚀刻,进而可以有效地改善有源区损伤。通过这种工艺优化方式,低温晶圆级探针(CP)测试时HRC频率精度分布更集中并且接近目标频率,有效提升了在低温条件下HRC的频率精度,晶圆边缘HRC良率提升可以达到1%。 展开更多
关键词 内部高速振荡器 温度敏感性 浅沟槽隔离化学机械研磨 有源区损伤 多晶硅光刻
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