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A1/Ge双层膜退火过程中多中心晶化生长的模拟
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作者 王戴木 朱辉 《阜阳师范学院学报(自然科学版)》 2002年第1期16-18,共3页
对 a-Ge/Al 双层膜在退火过程中出现的分形晶化现象进行了模拟研究。结果显示,各团簇的生长呈现出各向异性。分形晶化是随机相继触发形核的结果。这种多中心分形晶化图形显示出多重分形特征,用盒计数法得到了模拟图形的多重分形谱。
关键词 Al/Ge双层 退火过程 多中心晶化生长 分形晶化 半导体/金属双层膜 计算机模拟
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