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A1/Ge双层膜退火过程中多中心晶化生长的模拟
1
作者
王戴木
朱辉
《阜阳师范学院学报(自然科学版)》
2002年第1期16-18,共3页
对 a-Ge/Al 双层膜在退火过程中出现的分形晶化现象进行了模拟研究。结果显示,各团簇的生长呈现出各向异性。分形晶化是随机相继触发形核的结果。这种多中心分形晶化图形显示出多重分形特征,用盒计数法得到了模拟图形的多重分形谱。
关键词
Al/Ge
双层
膜
退火过程
多中心晶化生长
分形晶化
半导体/金属双层膜
计算机模拟
下载PDF
职称材料
题名
A1/Ge双层膜退火过程中多中心晶化生长的模拟
1
作者
王戴木
朱辉
机构
阜阳师范学院物理系
出处
《阜阳师范学院学报(自然科学版)》
2002年第1期16-18,共3页
文摘
对 a-Ge/Al 双层膜在退火过程中出现的分形晶化现象进行了模拟研究。结果显示,各团簇的生长呈现出各向异性。分形晶化是随机相继触发形核的结果。这种多中心分形晶化图形显示出多重分形特征,用盒计数法得到了模拟图形的多重分形谱。
关键词
Al/Ge
双层
膜
退火过程
多中心晶化生长
分形晶化
半导体/金属双层膜
计算机模拟
Keywords
Thin film
Simulation
Multifractal
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TP391 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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作者
出处
发文年
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1
A1/Ge双层膜退火过程中多中心晶化生长的模拟
王戴木
朱辉
《阜阳师范学院学报(自然科学版)》
2002
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