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半导体微碟激光器设计原理与工艺制作 被引量:3
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作者 吴根柱 杜宝勋 +2 位作者 杨进华 任大翠 张兴德 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期563-567,共5页
用经典量子电动力学理论初步研究了半导体碟型微腔激光器的设计原理 ,采用光刻、反应离子刻蚀和选择化学腐蚀等现代微加工技术制备出抽运阈值功率很低且品质因数很高的低温光抽运InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器。这种激光器制作工艺... 用经典量子电动力学理论初步研究了半导体碟型微腔激光器的设计原理 ,采用光刻、反应离子刻蚀和选择化学腐蚀等现代微加工技术制备出抽运阈值功率很低且品质因数很高的低温光抽运InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器。这种激光器制作工艺简单 ,对有效光子状态密度调制较大 ,是比较理想的半导体微腔激光器。 展开更多
关键词 半导体微碟激光器 设计原理 工艺制作 有效光子状态密度 光抽运 电偶极子 品质因数
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