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微电子行业洁净室空气化学污染控制 被引量:4
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作者 吴小泉 《洁净与空调技术》 2020年第2期61-67,共7页
微电子工业在日益庞大而复杂的数据处理与存储市场需求的驱动下,半导体线宽已缩小至7 nm。若不能建立起有效空气化学污染控制标准和对其彻底控制,纳米级的光刻工艺是无法进行的。介绍空气化学污染的控制设施平台的建设,并进行了实验验证... 微电子工业在日益庞大而复杂的数据处理与存储市场需求的驱动下,半导体线宽已缩小至7 nm。若不能建立起有效空气化学污染控制标准和对其彻底控制,纳米级的光刻工艺是无法进行的。介绍空气化学污染的控制设施平台的建设,并进行了实验验证,该平台是中国首例达到国际标准(ISO1级,ISO14644-1)超净空气环境设施,在该设施中可开展空气洁净度和空气污染控制等课题研究,对实际项目的设计、运行具有重要参考价值。 展开更多
关键词 半导体线宽 空气化学污染 空气洁净度 ISO 1级
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80nm应用中的高数位孔径,双载具193nm TWINSCAN扫描分步投影机
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作者 程天风 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期7-11,34,共6页
针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nmTWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay... 针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nmTWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay)的要求水平。本机台拥有高成熟度的双载具平台,稳定的系统动态质(MSD),一惯性的光量递输等功能,幷包含了一个内建侦测回送系统来自动调控投影镜的像差(aberrations),来达到最佳的影像保真度。 展开更多
关键词 光刻技术 TWINSCAN 光量递输 投影机 半导体线宽控制
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Measurement of linewidth enhancement factor of SOA using fiber Sagnac Ring 被引量:3
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作者 GAO Hua-li WU Chong-qing LI Ya-jie NI Dong 《Optoelectronics Letters》 EI 2006年第2期142-144,共3页
Semiconductor optical amplifiers (SOA) are optical amplifying devices and key parts in optical switches and optical buffers.They are largely used in communication system.Linewidth enhancement factor is an important pa... Semiconductor optical amplifiers (SOA) are optical amplifying devices and key parts in optical switches and optical buffers.They are largely used in communication system.Linewidth enhancement factor is an important parameter for SOA.A method is proposed to measure the linewidth enhancement factor with Sagnac interferometer.Cross phase modulation (XPM) and cross gain modulation (XGM) coexist in SOA.The quantitative relation of linewidth enhancement factor to XGM and the interference extinction ratio is given.The experimental results indicate that the value of linewidth enhancement factor changes from 5.13 to 6.24 when the electric current varies from 130 mA to 240 mA. 展开更多
关键词 光学纤维 线宽 半导体光学放大器 SOA 光学开关
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