微电子行业洁净室空气化学污染控制

微电子工业在日益庞大而复杂的数据处理与存储市场需求的驱动下,半导体线宽已缩小至7 nm。若不能建立起有效空气化学污染控制标准和对其彻底控制,纳米级的光刻工艺是无法进行的。介绍空气化学污染的控制设施平台的建设,并进行了实验验证,该平台是中国首例达到国际标准(ISO1级,ISO14644-1)超净空气环境设施,在该设施中可开展空气洁净度和空气污染控制等课题研究,对实际项目的设计、运行具有重要参考价值。

80nm应用中的高数位孔径,双载具193nm TWINSCAN扫描分步投影机

针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nmTWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay)的要求水平。本机台拥有高成熟度的双载具平台,稳定的系统动态质(MSD),一惯性的光量递输等功能,幷包含了一个内建侦测回送系统来自动调控投影镜的像差(aberrations),来达到最佳的影像保真度。