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基于神光Ⅲ主机装置的中子半影锥成像系统设计 被引量:3
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作者 余波 苏明 +5 位作者 黄天晅 陈伯伦 蒋炜 蒲昱东 晏骥 刘慎业 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期2604-2610,共7页
针对半影孔加工和检测困难的缺点,设计了半影锥成像系统。根据神光Ⅲ主机装置中子产额条件,确定成像系统排布参数;根据点扩展函数的尖锐性和等晕性要求,确定半影锥参数;模拟半影锥系统的分辨率,以及在不同加工精度、偏心误差、旋转误差... 针对半影孔加工和检测困难的缺点,设计了半影锥成像系统。根据神光Ⅲ主机装置中子产额条件,确定成像系统排布参数;根据点扩展函数的尖锐性和等晕性要求,确定半影锥参数;模拟半影锥系统的分辨率,以及在不同加工精度、偏心误差、旋转误差和物距误差时,对成像质量的影响。模拟结果表明,系统分辨率能达到15μm,半影锥椭圆度的加工误差要小于0.1,瞄准的偏心误差要小于60μm,旋转误差要控制在0.35mrad以内,物距误差要控制在1mm以内。 展开更多
关键词 中子成像 半影锥 MONTE CARLO方法 瞄准精度
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