高精度光学中心偏测量仪主要技术指标的检测

简要阐述高精度光学中心偏测量仪主要技术指标，即仪器基准轴运动误差、测微目镜示值误差、测量系统倍率误差和角偏心测量误差的检测原理，最后给出计算实例。

高精度光学中心偏测量仪主要技术指标的检测

简要地阐述了高精度光学中心偏测量仪几项主要技术指标的检测方法，这是作者对本所研制的多台此类仪器进行检测的经验总结。

光学中心偏测量仪软件研制

文章介绍了北京空间机电研究所自行研制的光学中心偏测量仪的软件设计思路、工作原理 ,并对一些关键技术进行了讨论。

利用反射式椭偏仪确定SiO_2薄膜的光学特性的测量

利用反射式椭偏仪测量SiO2光学薄膜材料的光学常数(折射率n和消光系数k)和厚度,并且对测量结果进行建模和线性拟合,同时获得多个参数Is、Ic、和Δ的ψ描述。实验结果表明了光谱范围从300nm-800nm的Is、Ic、Δ(表示电场反射分量的位相差)和ψ(表示电场反射分量的振幅比)的测量结果与拟合结果的符合情况非常好,而折射率在光谱范围和之间出现了严重偏差。

反射式光学系统中心偏的测量

通过分析反射式光学系统的特点,在现有透射式光学系统中心偏测量仪的基础上,提出了适合该系统中心偏测量的方法,分析了球心像的观察条件,并推导出反射系统中心偏的计算公式,从而形成了一个完善的反射式光学系统中心偏测量体系。该方法能获得与透射系统中心偏测量相同的精度,操作方法也基本相同。

中心偏测量仪在红外物镜组件中心间隔测量中的应用研究

由于红外热像仪上使用的透镜多是不透明的,一直以来对同一光路上的多块透镜的间隔无法测量,只能靠物镜座上各透镜的装载面的间隔来保证,不能精确控制各透镜间的中心间隔,影响红外热像仪的光学装调质量。为解决这一工艺难题,提出了一种用中心偏测量仪测量红外物镜组件中心间隔的方法,经试验验证该方法能把直线间隔单次测量精度控制在2μm范围内。

基于Mueller矩阵成像椭偏仪的纳米结构几何参数大面积测量

为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学散射测量技术只能获得光斑照射区内待测参数的平均值,而对小于光斑照射区内样品的微小变化难以准确分析.此外,由于其只能进行单点测试,必须要移动样品台进行扫描才能获得大面积区域内待测参数的分布信息,从而严重影响测试效率.为此,本文将传统光学散射测量技术与显微成像技术相结合,提出利用Mueller矩阵成像椭偏仪实现纳米结构几何参数的大面积快速准确测量.Mueller矩阵成像椭偏仪具有传统Mueller矩阵椭偏仪测量信息全、光谱灵敏度高的优势,同时又有显微成像技术高空间分辨率的优点,有望为批量化纳米制造中纳米结构几何参数提供一种大面积、快速、低成本、非破坏性的精确测量新途径.

使用高精度三坐标测量仪实现透镜定中心

传统的光学测量定中心法受限于光源、转台大小和装调误差传递性而不适用于大口径、多透镜光学系统的装调,为此本文提出了使用三坐标测量仪接触式测定透镜中心的精密机械测量法。介绍了使用三坐标测量仪测量大口径透镜中心偏的原理,即在测量透镜上表面与基准轴等距离各点坐标的基础上拟合得到透镜光轴与基准轴的夹角,从而解算出透镜的中心偏。通过大口径长焦距镜头的装调对该方法进行了检验。检验结果表明:该透镜的装调偏差为6.47″,重复性误差为(1.16×10-4)″。该方法将光学测量变为机械测量,利于装调,可在保证装调精度的同时简化装调难度,提升装调效率,满足大口径多透镜光学系统对高精度装调的要求。

中心偏测量仪在红外光电系统中的应用

中心偏差的调校是高精度光学系统装调的关键环节，通常采用中心偏测量仪对光学系统的中心偏差进行测量和调校。本文介绍了中心偏的定义，阐述了中心偏测量仪的工作原理，重点介绍了中心偏测量仪测量红外系统透镜中心厚和调校红外光学透镜的应用。

光学中心偏测量装置测量不确定度分析研究

本文从反射式中心偏的测量原理和方法入手，分析光学中心偏测量系统测量不确定度的来源，以CENTRE．TEST中心偏测量系统为例，论述中心偏测量系统测量不确定度分析方法，根据计算结果，对影响CENTRE—TEST中心偏测量系统测量结果的主要因素进行了分析和讨论。

旋转元件式自动椭圆偏振仪

旋转元件式椭圆偏振仪,是一种光度式椭偏仪。它不采用消光原理而以测量椭圆偏振光的强度为基础,利用计算机求出偏振参数ψ、Δ,因而具有较高的测量速度。旋转检偏器时,不能测定Δ的符号,但是可运用于不同波长的测量。旋转四分之一波片时则是一种完全的椭偏仪,能唯一确定Δ,ψ值。本文介绍了利用旋转四分之一波片式椭偏仪对蒸发中的介质膜进行实时测量的结果。

基于Matlab的透镜中心偏测量光轴拟合

光学中心偏测量在光学系统的检测和装校中具有重要的意义。为消除被测件在测量仪器上的安装定位过程带来的误差,必须对直接测量的数据进行修正。光轴拟合就是对测量数据的优化和修正的过程。提出一种光轴拟合的数学模型,该数学模型结合了解析方法和数值分析方法,考虑了中心偏测量的实际情况,在严格的数学模型基础上做了合理的简化,使光轴的拟合问题最终转化为对线性方程组的求解。拟合方法最终采用了长于矩阵运算的Matlab编程实现。实践证明,数据优化的效果明显,运算速度快,可以适应测量者的一些特殊的优化要求,对同一被测件的两次测量数据优化结果进行比较,重复性好。

基于广义椭偏仪的纳米结构测量理论与方法研究

光学散射测量技术由于具有测量速度快、成本低、非破坏和易于集成等优点,目前已经发展为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段。传统光学散射测量技术基于光谱椭偏仪,只能改变波长和入射角2个测量条件且每次测量只能获得振幅比和相位差2个测量参数。

厚膜光学参数的椭偏消光法测量

讨论了三相椭偏方程对于解算膜厚大于一个周期的介质薄膜（厚膜）光学参数的原理和方法；给出了在ＷＪＺ型多功能激光椭偏仪上进行的测量实例及计算结果．

面阵CCD探测的全自动椭圆偏振光谱系统研究

给出了一种椭圆偏振光谱的快速测量方法 ,并使得实验系统的结构更为紧凑和小型化 ,减轻了重量 .研究中采用了由面阵型CCD探测器和平面多光栅组成的光谱仪 ,无需光栅扫描 ,就能够在很短时间内对光谱进行快速准确的数字凝视式成像 ,光谱分辨精度优于 1.0nm ,显著提高了系统工作的可靠性和效率 .系统采取了将CCD光谱仪后置的方式 ,研究并解决了从物理光学原理、器件设计和加工、系统调试和定标、软件编制以及到光谱测量和数据分析等一系列问题 .实验中对典型贵金属Au的光学常数谱进行了测量 ,获得了满意的结果 .

USB2.0接口在分振幅光偏振仪中的应用

基于USB2.0接口技术,利用单片机CY7C68013研制了分振幅光偏振仪的电子学系统.光电探测器将光偏振仪光学系统产生的多束光的光强线性地转换为电信号,经信号调理后,由多通道高速A/D转换器转换为数字量,然后通过USB2.0接口高速传输到PC机.利用PC机上的应用程序实现标定和测量时的数据采集和数据处理.测试结果表明:采用该电子学系统的分振幅光偏振仪具有测量速度快、精度高、安装方便等优点,测量时间小于10-3s,斯托克斯参数的平均偏差小于1%.

椭圆偏振法测量薄膜参量的数据处理

利用实时作图的方法 ,开发设计了椭偏仪数据处理应用程序 .该程序不但具有传统查图法简便直观的特点 ,而且不限制实验条件的选择 ,能够满足科学研究和实验教学的要求 .利用该程序和多入射角测量方法 。

一种透镜系统中心偏光轴拟合模型

由于安装误差的存在,同一个透镜每次安装后进行中心偏测量时测量结果都不同.为了减小这种安装误差,引入系统最佳光轴的概念,在这里进行的光轴拟合就是要找到系统的最佳光轴,这样,中心偏测量的重复性就比较好,而且由于提供了最优光轴,所以相应地提高了光学系统的性能.

TP77椭圆偏振光测厚仪功能的拓展研究

成功地将TP77椭圆偏振光测厚仪改装成以卤钨灯或氙灯为光源的广谱椭偏仪 .改装后的椭偏仪不含λ/4波长片 ,而配有一型号为WDG5 0 0 1A的单色仪和一个X Y函数记录仪 ,它可用来测量固体薄膜和片状材料的折射指数n(λ)和消光指数k(λ) .