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Mo背电极对CIGS吸收层生长特性的影响 被引量:1
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作者 张俊敏 高泽冉 +1 位作者 赵蔚 于威 《化工设计通讯》 CAS 2020年第2期239-240,共2页
研究了利用单一四元靶材进行一步溅射法制备的CIGS薄膜的特性。研究了工作气压、衬底温度、Mo背电极对CIGS薄膜性能的影响。研究发现,当CIGS直接沉积在玻璃基底上时,一步溅射CIGS薄膜的优先取向和结晶度受工作气压和衬底温度的影响。而... 研究了利用单一四元靶材进行一步溅射法制备的CIGS薄膜的特性。研究了工作气压、衬底温度、Mo背电极对CIGS薄膜性能的影响。研究发现,当CIGS直接沉积在玻璃基底上时,一步溅射CIGS薄膜的优先取向和结晶度受工作气压和衬底温度的影响。而在器件制备方面,Mo背电极主导了CIGS薄膜的生长行为,并诱导其形成了较大的CIGS晶粒尺寸和较好的结晶度。最后,采用一步溅射法在0.07~2.66Pa的工作气压下制备了CIGS器件,最高效率达到8.67%。 展开更多
关键词 单一四元靶材 一步溅射法 CIGS
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