基于自组装单分子层技术的单晶硅表面化学镀镍工艺优化

传统的化学镀镍前处理会对单晶硅造成严重影响,进而影响两者的结合。以单因素条件设计并结合4因素3水平正交试验,对单晶硅表面进行改性活化处理,优选出化学镀镍的处理条件为:羟基化处理15h,偶联处理48h,再在化学镀液中于90℃下施镀1h,在此条件下对单晶硅化学镀镍可以获得的沉积速度高达6.137mg/(cm2.h),且镀层与硅片结合牢固,颗粒品质优良。

自组装单分子层技术在细胞生物学中的应用

本篇综述简单总结了自组装单分子层技术在研究蛋白吸附、生物识别、细胞粘附以及制备图案化和动力学表面等方面的进展.

脂肪酶GZEL及其C-端截断突变体对磷脂单分子膜的吸附动力学研究

基于单分子层技术研究了禾谷镰孢菌脂肪酶GZEL对不同磷脂单分子膜的吸附动力学。同时,采用截断突变方法分析C-端肽段(编号为269-319的氨基酸)缺失后对脂肪酶GZEL界面吸附动力学参数的影响。研究发现,脂肪酶GZEL对不同磷脂单分子层的吸附动力学参数(吸附常数k_a,解离常数k_d,吸附平衡常数K_(Ads))与磷脂单分子膜的种类及初始表面压力密切相关。尽管如此,相比于野生型GZEL,269-319肽段缺失后导致酶蛋白对不同磷脂单分子膜的吸附常数k_a均显著降低,而解离常数k_d则显著升高,两者共同导致酶蛋白对于磷脂单分子膜的亲和力K_(Ads)显著降低。野生型GZEL对不同磷脂单分子膜的选择性顺序为磷脂酰丝氨酸>磷脂酰胆碱>磷脂酰乙醇胺。而269-319肽段缺失后,酶蛋白对于这三种磷脂单分子膜的亲和力则表现为无显著差异。以上结果表明269-319肽段在脂肪酶GZEL的界面吸附及对磷脂选择性方面均发挥有重要作用。

含钴(Ⅱ)配阳离子的MoS_2基嵌入化合物

本文测量了表面ζ电位随pH值的变化关系,表明MoS2单分子层表面吸附的是OH-离子,其等电点在pH=2附近.在pH=5～10范围内,ζ电位在-22到-24 mV之间,较为稳定.在pH=7.2条件下,利用MoS2单分子层与钴(Ⅱ)配位阳离子基团反应合成了3个嵌入化合物[Co(H2O)z]y/2MoS2、[Co(bpy)3]y/2MoS2和[Co(phen)3]y/2MoS2.X-射线衍射、元素分析和热重分析研究表明前一个化合物中每10个{MoS2}单元约嵌入一个水合钴离子,层间距增大了0.893 nm,水合钴离子在基体层间按双层错开排列.后两个化合物中每20个{MoS2}单元约嵌入一个钴有机配阳离子,层间距分别增大了0.953和1.018 nm,配位阳离子则单层排列于MoS2基体层间,[Co(bpy)3]2+和[Co(phen)3]2+离子中CoN6配位八面体的三次对称轴近于垂直于MoS2基体层板.