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SEZ揭开业界最高产的采用90NM技术标准的单晶湿处理清洗系统的神秘面纱
1
《集成电路应用》 2003年第7期38-38,共1页
半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者SEZ集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的单晶处理方法中,创新的'Da Vinci达芬奇'系列新产品有效地实现了高产出和小空间矛盾统一,最终将以最高水平... 半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者SEZ集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的单晶处理方法中,创新的'Da Vinci达芬奇'系列新产品有效地实现了高产出和小空间矛盾统一,最终将以最高水平的可用性和可靠性而称雄市场。 展开更多
关键词 SEZ集团 90NM技术标准 单晶湿处理清洗 多气压舱
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SEZ揭开业界最高产的采用90-NM技术标准的单晶湿处理清洗系统的神秘面纱
2
《中国集成电路》 2003年第50期22-22,共1页
半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者 SEZ 集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的单晶处理方法中。
关键词 SEZ集团 90-NM技术 单晶湿处理清洗系统 半导体生产工艺
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