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硅片湿法清洗工艺技术及设备发展趋势 被引量:7
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作者 曹秀芳 姚立新 +1 位作者 祝福生 宋文超 《电子工业专用设备》 2011年第4期9-13,28,共6页
简要介绍了硅片湿化学清洗工艺技术及清洗设备结构技术,包括一些典型的槽体结构、干燥工艺技术等。并就清洗技术的发展需要,阐述未来清洗设备的发展趋势。
关键词 污染物 标准工业湿法清洗 槽式清洗 旋转甩干 单片旋转清洗
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