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注入条件对SIMOX材料的影响
1
作者
李映雪
游曲波
+4 位作者
甘学温
武国英
王阳元
丁富荣
韦伦存
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第5期74-76,共3页
利用RBS和TEM技术分析研究了不同注入剂量、注入方式(单重注入,多重注入)对SIMOX材料各层结构的影响,特别着重研究了Si/SiO_2界面过渡区受注入条件的影响.结果表明,在注入剂量相同的情况下,多重注入不仅能改...
利用RBS和TEM技术分析研究了不同注入剂量、注入方式(单重注入,多重注入)对SIMOX材料各层结构的影响,特别着重研究了Si/SiO_2界面过渡区受注入条件的影响.结果表明,在注入剂量相同的情况下,多重注入不仅能改善顶层单晶、SiO_2绝缘层的质量,而且能显著减小Si/SiO_2界面过渡区宽度。
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关键词
氧
注入
SOI
单重注入
多重
注入
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职称材料
题名
注入条件对SIMOX材料的影响
1
作者
李映雪
游曲波
甘学温
武国英
王阳元
丁富荣
韦伦存
机构
北京大学微电子学研究所
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第5期74-76,共3页
文摘
利用RBS和TEM技术分析研究了不同注入剂量、注入方式(单重注入,多重注入)对SIMOX材料各层结构的影响,特别着重研究了Si/SiO_2界面过渡区受注入条件的影响.结果表明,在注入剂量相同的情况下,多重注入不仅能改善顶层单晶、SiO_2绝缘层的质量,而且能显著减小Si/SiO_2界面过渡区宽度。
关键词
氧
注入
SOI
单重注入
多重
注入
Keywords
Oxygen implantation
SOI
Single implantation
Sequential implantation
分类号
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
注入条件对SIMOX材料的影响
李映雪
游曲波
甘学温
武国英
王阳元
丁富荣
韦伦存
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995
0
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