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多项目晶圆概念及其版图排版规则分析
1
作者
杨跃胜
《集成电路应用》
2017年第2期44-46,共3页
介绍两种流片方式生产的晶圆,即单项目晶圆和多项目晶圆,阐述单项目晶圆和多项目晶圆的区别,并以芯片产业化测试的角度提出了多项目晶圆在流片之前进行版图排版设计注意事项,多项目晶圆排版可根据此文建议方式灵活运用。
关键词
多
项目
晶圆
单项目晶圆
版图
WAFER
下载PDF
职称材料
题名
多项目晶圆概念及其版图排版规则分析
1
作者
杨跃胜
机构
深圳市远望谷信息技术股份有限公司
出处
《集成电路应用》
2017年第2期44-46,共3页
文摘
介绍两种流片方式生产的晶圆,即单项目晶圆和多项目晶圆,阐述单项目晶圆和多项目晶圆的区别,并以芯片产业化测试的角度提出了多项目晶圆在流片之前进行版图排版设计注意事项,多项目晶圆排版可根据此文建议方式灵活运用。
关键词
多
项目
晶圆
单项目晶圆
版图
WAFER
Keywords
multi project wafer, single wafer, layout
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
多项目晶圆概念及其版图排版规则分析
杨跃胜
《集成电路应用》
2017
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