基于卤化锂改性的聚硫酸酯(PSE)超滤膜的制备及研究

采用聚硫酸酯(PSE)树脂为原料、二甲基乙酰胺(DMAc)为溶剂,卤化锂(LiF、LiBr、LiCl、LiI)为改性添加剂制备中空纤维聚硫酸酯超滤膜,利用卤素离子和DMAc的溶剂化效应,制备得到了高水通量和高抗污染性的PSE超滤膜。试验结果表明,随卤素离子原子序数的增加,亲水性,水通量,抗污染性上升。当添加剂为碘化锂(LiI)时,水通量最大为216.99 L/(m^(2)·h),为无添加剂对照组(108.41 L/(m^(2)·h))的两倍。且对牛血清蛋白(BSA)的截留率为98.19%,对制备高渗透性和高抗污染性的膜具有深刻意义。

锂的卤化物LiX(X=F,Cl,Br,I)的镜像势态

基于局域密度近似的密度泛函理论,运用多体摄动理论的GW近似,计算了碱金属锂的卤族化合物LiF (001)-(1X1)、LiCl (001)-(1X1)、LiBr (001)-(1X1)、LiI (001)-(1X1)表面的准粒子能带结构.GW近似改进了密度泛函理论对于电子交换关联的处理,计算出的带隙与实验值吻合.由GW近似计算得出的LiF、LiCl和LiBr的(001)表面能带具有负亲和能,由于绝缘体表面外真空中电子与绝缘体表面极化电荷的相互作用,在真空中产生了镜像势态.利用GW近似研究了镜像势态波函数沿表面法线方向的分布,并将由GW近似计算得到的镜像势态的单粒子势能与经典的镜像势能进行了比较.但是,从GW近似给出的表面能带结构可看出,LiI(001)表面具有正亲和能,因而不存在镜像势态.

KI晶体附加着色并同时掺杂的研究

在用K附加着色时掺入适量的锂卤化物,可同时进行着色和掺杂。通过调整气体压力、着色温度、恒温时间及锂卤化物和钾的用量;可改变样品中杂质锂的含量。用原子吸收法分析其中锂的最高含量可达200ppm。

HPLiF的构型及异构化反应的从头计算研究

利用ＲＨＦ∥３－２１Ｇ从头算解析梯度方法，优化了ＨＰＬｉＦ的平衡构型和相应的异构化反应过渡态构型，结果表明，ＨＰＬｉＦ有三种平衡构型，其中三元环构型为最稳定的构型．另外，还对ＨＰＬｉＦ和ＦＨ的插入反应机理进行了计算和简单的讨论．