1
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纳米压印光刻胶 |
赵彬
张静
周伟民
王金合
刘彦伯
张燕萍
施利毅
张剑平
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《微纳电子技术》
CAS
北大核心
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2011 |
2
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2
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纳米压印光刻模具制作技术研究进展及其发展趋势 |
兰红波
丁玉成
刘红忠
卢秉恒
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《机械工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2009 |
16
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3
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压印光刻工艺中光刻胶填充流变模拟与试验研究 |
王权岱
段玉岗
卢秉恒
李涤尘
向家伟
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《机械工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
7
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4
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纳米压印光刻技术的研究 |
张鸿海
胡晓峰
范细秋
刘胜
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《华中科技大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
12
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5
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冷压印光刻工艺精密定位工作台的研制 |
严乐
卢秉恒
丁玉成
刘红忠
李寒松
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《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
5
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6
|
冷压印光刻中高分辨率抗蚀剂的研究 |
李寒松
丁玉成
王素琴
卢秉恒
刘红忠
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《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
4
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7
|
高分辨率常温压印光刻工艺研究 |
秦旭光
李涤尘
李寒松
丁玉成
卢秉恒
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《电加工与模具》
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2003 |
1
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8
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纳米压印光刻中的多步定位研究 |
刘红忠
丁玉成
卢秉恒
王莉
邱志惠
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《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
3
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9
|
步进闪光压印光刻模具制作工艺研究 |
李寒松
丁玉成
卢秉恒
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《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
5
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10
|
压印光刻对准中阻蚀胶层的设计及优化 |
邵金友
丁玉成
卢秉恒
王莉
刘红忠
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《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
2
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11
|
压印光刻中的两步对正技术 |
王莉
卢秉恒
丁玉成
刘红忠
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《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
2
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12
|
高保真度五步加载纳米压印光刻的研究 |
严乐
刘红忠
丁玉成
卢秉恒
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《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
2005 |
2
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13
|
多层冷压印光刻中超高精度对正的研究 |
王莉
卢秉恒
崔东印
丁玉成
刘红忠
|
《西安交通大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
2004 |
1
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14
|
纳米压印光刻中抗蚀剂膜厚控制研究 |
严乐
李寒松
刘红忠
卢秉恒
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《机械设计与制造》
北大核心
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2010 |
2
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15
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基于分步式压印光刻的激光干涉仪纳米级测量及误差研究 |
刘红忠
丁玉成
卢秉恒
王莉
|
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
2006 |
1
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16
|
纳米压印光刻工艺的研究进展和技术挑战 |
丁玉成
|
《青岛理工大学学报》
CAS
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2010 |
6
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17
|
面向大面积微结构批量化制造的复合压印光刻 |
兰红波
刘明杨
郭良乐
许权
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《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2019 |
4
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18
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高保真度压印光刻图形质量研究 |
严乐
卢秉恒
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《北京信息科技大学学报(自然科学版)》
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2012 |
0 |
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19
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我国纳米压印光刻技术专利态势分析 |
戴翀
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《科技和产业》
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2013 |
0 |
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20
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纳米压印光刻技术综述 |
魏玉平
丁玉成
李长河
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《制造技术与机床》
CSCD
北大核心
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2012 |
10
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