基于超声压印技术的PET材料表面微结构制备及其疏水性

为考察利用超声压印技术在PET聚合物材料表面制备疏水性微结构的技术可行性,以超声波塑料焊接机为核心搭建了超声压印平台,采用飞秒激光技术在7076航空铝表面制备一系列不同尺寸的立方体微结构疏水性点阵,并以此作为压印模具在PET材料表面制备疏水性微结构,采用白光干涉仪和接触角测量仪对其表面形貌和疏水性进行表征。结果表明:压印后的PET材料表面液滴接触角可达129.5°,较初始PET材料表面液滴接触角74.9°有大幅提升,表明压印后PET材料表面的疏水特性显著提升,证实了利用超声压印技术制备PET材料疏水表面的可行性;模具的疏水性是影响PET材料疏水性的一个关键因素,随着微结构点阵间距的增加,即固液接触的面积分数增加,PET压印样件的疏水性降低;微结构点阵间距相同时,微结构边长越小,其疏水性越好。

下一代实用光刻技术——纳米压印技术

详细介绍了纳米压印技术的应用前景,对目前各种纳米压印工艺进行归纳、分类。通过 对不同工艺过程的深入比较,分析了它们的优缺点,并展望了各自的应用前景。

紫外纳米压印技术的图形转移层工艺研究

研究了紫外纳米压印技术的图形转移层工艺,通过改变膜厚进行压印对比实验,将转速控制在3000～4000r/min,成功地得到了50nm光栅结构的高保真图形,复型精度可以达到93.75%。同时阐明,纳米压印技术由于具有超高分辨率、低成本、高产量等显著特点,将成为下一代光刻技术(NGL)的主要候选者之一。

热压印技术制作纳米光栅

通过分析脱模过程的摩擦力,讨论了模具表面处理工艺与压模质量的关系,给出了降低脱膜过程摩擦力的工艺方法。实验结果表明,用类聚四氟乙烯膜作为脱模剂能大大减小模具表面与聚合物表面的摩擦力。研究了压模、脱模工艺参数对实验结果的影响,基于HEX-02塑铸系统,真空条件下,在压模温度为195℃,模压压强为8 MPa的环境下,利用热压印技术在PMMA薄膜上复制出周期为120 nm的纳米光栅。

AutoCAD压印技术研究与应用

为解决应用AutoCAD软件绘制机械工程图样中相贯线绘图这一难点问题,采用AutoCAD软件绘制技术来解决。压印技术是AutoCAD软件的一项三维编辑功能,通过对AutoCAD压印技术的应用,以作图实例重点解决如何应用AutoCAD软件在机械工程图样上准确绘制相贯线的方法、步骤和相关技术问题,该方法为解决该类问题提供了技术参数。

纳米压印技术的最新进展

总结了纳米压印技术的最新进展,其中包括压印工艺、图形赋形方法以及纳米压印技术应用三方面最新的研究成果。在压印工艺的发展方面,大面积滚轴压印的发明最具有产业化意义,它不仅解决了常规平板压印很难大面积压印成型的困难,而且整个过程是一种柔性压印过程,降低了成本,提高了压印效率,但是最小特征尺寸还有待提高;在图形赋形方法的改进中,聚合物探针阵列技术集微米和纳米成型技术于一身,压印效率高,应用前景广阔;在压印技术应用的发展中,光伏电池、电子存储设备以及传感器等为纳米压印技术的应用提供了新的领域。

模切压痕凹凸压印技术及设备的现状与发展

模切压痕、凹凸压印技术是印品表面处理技术中最常用的加工技术。 凹凸压印是利用阴阳两块模版,通过机械施加一定的压力,使印品或纸张表面发生塑性变形,压印出具有立体效果的图案,目前已广泛用于书刊装帧、包装装潢等领域。

纳米压印技术及发展

微纳米加工技术作为一种典型的先进制造技术,通过压模的方法来实现纳米结构的批量复制,在小型甚至微型元器件、微型芯片及生物传感器的制造、批量化生产中具有不可取代的作用。纳米压印技术不仅具有较低的成本、较高的分辨率及生产效率,而且拥有良好的兼容性与继承性、制造工艺方便等特点。文章对纳米压印的三种常用技术进行了简述,同时列举了一些新型纳米压印的方法,还概括了纳米压印技术面临的挑战,并对该技术的研究现状及应用进行了综述。

纳米压印技术:32纳米光刻之选?

设想一下,如果能够一步实现低介电常数绝缘材料的双大马士革结构(包括通孔和金属导线槽),就能减少123步的工艺步骤。这就是纳米压印技术所能够带来的惊人之处。此外,这项技术成本低廉、潜力无限。

纳米压印技术实用化可提升LED发光效率20-30％

纳米压印是指通过像盖章一样把刻着精细图案的模具按压到基板等的上面．大量转印该图案的技术。最近，该技术的实用化案例越来越多。用R2R方式量产LED用模具 采用纳米压印技术的精细图案形成技术有助于提高LED和有机EL等的发光效率。

MII带来纳米压印技术的革新

去年全球半导体光刻掩膜板市场已达到了30亿元规模,驱动这一市场成长的关键主要来自于先进技术持续进行微缩,传统的光学光刻技术将持续推动下一代光刻技术方案的推陈出新。相比起目前主流的浸没式光刻技术而言,下一代光刻技术可延伸至更细微的纳米制程节点,其中,作为下一代光刻技术候选者之一的纳米压印技术已经进入技术成熟期,并逐渐走向商业化,吸引了许多的热衷者。Molecular Imprints公司是半导体行业颇受关注的压印设备制造商,致力于提供硬盘驱动器领域和半导体领域的纳米压印光刻系统的解决方案,实现业界先进的存储磁盘驱动器和存储设备所需的精细功能。

纳米压印技术

1947年美国航空局和美国标准局发起了印制电路首次技术讨论会,当时列出了26种不同的印制电路制造方法,并归纳为六类：涂料法、喷涂法、化学沉积法、真空蒸发法、模压法和粉压法。当时这些方法都未能实现大规模工业化生产,上述的模压法可能就是今天论述的纳米压印技术。

热压印刻蚀技术

纳米压印技术是一种高分辨率、廉价、高效的纳米结构制备技术。它既继承了传统光刻技术所具有的并行性，又同时拥有传统光刻技术不易达到的纳米结构制备能力，这为今后纳米结构的广泛应用提供了良好的条件。文章介绍了纳米热压印技术中核心工艺流程，包括：模板的制备、抗粘层的制备、压印过程中温度与压力的影响、反应离子刻蚀，并且给出了利用纳米热压印技术制备的光栅结构，最后展望了纳米压印技术的前景。

负性光刻胶在纳米压印光刻技术的应用前景

光刻技术在微纳米制造领域具有关键作用,而负性光刻胶因其低成本、高黏度的特点备受青睐。然而,负性光刻胶的分辨率限制在光刻线宽小于3μm时成为制约其应用的主要问题。结合纳米压印光刻技术的发展,探讨了负性光刻胶在纳米压印光刻领域的新趋势。纳米压印光刻技术的物理方法使其不受光刻胶分辨率限制,为负性光刻胶的应用提供了新的机遇。结合负性光刻胶的低成本优势,纳米压印光刻技术与负性光刻胶相结合,呈现出了不可替代的应用前景。

纳米压印技术在LED器件制备中的应用

纳米压印技术(NIL)是一种机械制备纳米图形的微加工技术,它具有设备简单、易于操作、重复性好和成本低等优点。同时,它可以大面积制备高分辨率的纳米图形,使得大批量低成本地生产微纳器件成为可能。而固态照明工程目前是被全世界所关注的重要领域,制备出高效III-V化合物半导体发光二极管(LED)来代替现有的传统照明工具已经掀起了照明技术的革命,以实现高质量、绿色的照明。重点介绍了纳米压印技术的发展和工艺过程,并详细论述纳米压印技术在无机和有机LED制备中的应用,实现纳米结构LED以及表面光子晶体结构,从而提高LED的发光效率。

联线压印转移技术的应用

联线压印转移技术是近几年来印刷技术上一个重要的突破,结合了传统印刷及贴合技术,降低了生产成本,提升了产品的附加价值。在阐述联线压印转移技术的原理和特点的基础上,对目前该技术在应用中存在的问题进行了分析;指出了该技术的难点所在,对其发展前景作出了预测。

纳米压印光刻技术——下一代批量生产的光刻技术(英文)

纳米压印光刻技术已被证实是纳米尺寸大面积结构复制的最有前途的下一代技术之一。这种速度快、成本低的方法成为生物化学、μ级流化学、μ-TAS和通信器件制造以及纳米尺寸范围内广泛应用的一种日渐重要的方法,如生物医学、纳米流体学、纳米光学应用、数据存储等领域。由于标准光刻系统的波长限制、巨大的开发工作量、以及高昂的工艺和设备成本,纳米压印光刻技术可能成为主流IC产业中一种真正富有竞争性方法。对细小到亚10nm范围内的极小复制结构,纳米压印技术没有物理极限。从几种纳米压印光刻技术中选择两种前景广阔的方法——热压印光刻(HEL)和紫外压印光刻(UV-NIL)技术给予介绍。两种技术对各种各样的材料以及全部作图的衬底大批量生产提供了快速印制。重点介绍了HEL和UV-NIL两种技术的结果。全片压印尺寸达200mm直径,图形分辨力高,拓展到纳米尺寸范围。

压印技术制作太赫兹器件

英国格拉斯哥大学的研究人员．实现了一种快速可靠的太赫兹器件压印技术。该技术使用硅片作为掩模板在聚丙烯中压印太赫兹衍射器件，制作成本低廉。

热压印刻蚀技术

纳米压印刻蚀技术是通过压模的方法实现纳米结构批量复制的。这一技术具有高分辨、高效率和低成本的优点。它与现行的光学刻蚀技术流程相似,具有较好的兼容性与继承性。详细介绍了热压印刻蚀技术的核心工艺步骤:压印模板的制备、热压印胶的选择、压模和撤模、反应离子刻蚀以及热压印过程中的聚合物流动机理,探讨了热压印刻蚀技术中的基础科学问题。还分析了纳米压印刻蚀技术的研究现状,展望了纳米压印刻蚀技术的应用前景。

纳米压印加工技术发展综述

纳米技术是一项有望为 2 1世纪人类生活的各个方面带来革命的技术。纳米技术不是在一夜之间产生出来的 ;它是在业已发展多年的、为我们带来了微芯片和其它微米产品的基础上产生的。任何纳米技术均依赖通过纳米加工技术将物体加工至纳米尺度。许多具有 10 0纳米以下加工能力的技术已被开发出来。纳米压印技术就是其中的一项很有希望的技术 ;它具有低成本、高产量和高分辨率的特点。本文对纳米压印技术的发展进行了综述 ,描述了纳米压印的基本原理 ,然后对近年的新进展进行了介绍 ,并特别强调了纳米压印的产业化问题。我们希望这篇综述能够引起国内工业界和学术界的关注 ,并致力于在中国发展纳米压印技术。