基于湿法刻蚀的MEMS压印模版制作

介绍了一种基于玻璃湿法刻蚀低成本的MEMS压印模版制作工艺,工艺中以单层光刻胶作为刻蚀掩模,重点研究了改善刻蚀图形几何轮廓和提高表面质量的方法。在对钻蚀形成机理进行分析的基础上,通过对比偶联剂不同涂敷方式及不同蒸镀时间对刻蚀结果的影响,优化了硅烷偶联剂的涂敷工艺,使钻蚀率降低到0.6,图形几何形状得到改善。分析了刻蚀生成物的溶解度,采用HCl作为刻蚀液添加剂对刻蚀产生的难溶物进行分解,提高了表面质量。对刻蚀表面缺陷的形成原因进行了分析,采用厚胶层工艺消除了表面缺陷。利用该工艺制作了图形特征尺寸为100μm的MEMS压印模版,并进行了初步压印实验,得到了很高的复型精度。

网线压纹凸凹版的制作

网线压纹凸凹版，它不是印刷色版，而是一种通过印压在烫印各色电化铝、金银卡纸等具有金属光泽质地印件表面上形成网纹压迹及多层次凸凹压模版。不仅使印件赋有立体感，还会因纹迹的不同角度和层次变化产生光散射，呈现出奇异多变的动态视觉效果，大大地提高了产品的装饰...