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RFT测井资料估算渗透率方法的分析 被引量:8
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作者 刘锋 魏阳庆 +1 位作者 于鹏霄 李凤琴 《断块油气田》 CAS 2003年第1期79-81,共3页
详细分析了用RFT测井资料估算地层渗透率的各种方法 ,按压降法和压力恢复分析法给出了 5个不同的计算公式 ,并探讨了它们之间的相互关系 ,提出了用压力与恢复时间函数关系图来识别地层中压力传播模式的可能性 。
关键词 RFT测井资料 估算 渗透率 压降周期 力恢复周期 球形流动 圆柱形流动 油气藏
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RFT测井资料解释处理方法与软件应用 被引量:3
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作者 王杰堂 《勘探地球物理进展》 2007年第4期301-305,共5页
基于RFT测井原理和预测试压力曲线资料,根据地下流体的渗流理论,研究了RFT测井资料的解释处理方法,解决了计算机自动拾取和人机交互提取测量点时间压力数据的问题,讨论了压降法求取地层渗透率的适用范围及其公式。应用所研究的方法,开发... 基于RFT测井原理和预测试压力曲线资料,根据地下流体的渗流理论,研究了RFT测井资料的解释处理方法,解决了计算机自动拾取和人机交互提取测量点时间压力数据的问题,讨论了压降法求取地层渗透率的适用范围及其公式。应用所研究的方法,开发了RFT测井资料解释处理软件。用积分压降法可以准确地判断地层的渗透性,用绘制出的压力剖面图能够确定流体性质和流体界面。通过生产中的实际应用验证了该方法。 展开更多
关键词 RFT 测井资料 地层 地层渗透率 压降周期 力梯度
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RFT测井资料解释处理方法与软件应用
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作者 王杰堂 《国外测井技术》 2007年第1期46-49,共4页
基于RFT预测试压力曲线资料,对RFT测井资料解释处理方法进行了研究,解决了计算机自动拾取和人机交互提取测量点的时间压力数据问题,给出了压降法和压力恢复分析法两种求取地层渗透率的方法及其公式。应用所研究的方法,开发了RFT测... 基于RFT预测试压力曲线资料,对RFT测井资料解释处理方法进行了研究,解决了计算机自动拾取和人机交互提取测量点的时间压力数据问题,给出了压降法和压力恢复分析法两种求取地层渗透率的方法及其公式。应用所研究的方法,开发了RFT测井资料解释处理软件,并在实际生产中取得了良好的应用效果。 展开更多
关键词 重复式电缆地层测试器(RFT) 测井资料 地层 地层渗透率 压降周期 力恢复分析
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RFT测井资料估算渗透率方法的分析
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作者 师和伟 刘锋 《国外测井技术》 2003年第1期25-27,29,共4页
文章详细分析了用RFT测井资料估算地层渗透率的各种方法,按压降法和压力恢复分析法给出了五个不同的计算公式并探讨了它们之间的相互关系,提出了用压力与恢复时间函数关系图来识别地层中压力传播模式的可能性并用实例给予了验证。
关键词 RFT 测井资料 估算 渗透率方法 压降周期 力恢复周期 球形流动 圆柱形流动 油气层
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Pressure Drop Fluctuations in Periodically Fluctuating Pipe Flow 被引量:1
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作者 高璞珍 刘廷浩 +1 位作者 杨婷 谭思超 《Journal of Marine Science and Application》 2010年第3期317-322,共6页
Experiments were conducted to study characteristics of flow when flow is fluctuating.The experimental results showed a phase difference between the flow rate and the pressure drop fluctuations.This phase difference be... Experiments were conducted to study characteristics of flow when flow is fluctuating.The experimental results showed a phase difference between the flow rate and the pressure drop fluctuations.This phase difference between the fluctuating flow rate and pressure drop was analyzed for laminar flow.Analysis showed that the phase difference changes with the period of the flow fluctuation, the pipe radius, the density and the dynamic viscosity of the liquid.Fluctuating pipe flow was then numerically simulated.Results of the numerical simulation were compared with theoretical values and experimental results.It was shown that, when the flow rate fluctuates with time as a sine wave, the pressure drop fluctuates with the same periodicity, and there is a phase difference between them. 展开更多
关键词 flow fluctuation pressure drop flow rate phase difference
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Influence of background pressure on the microstructure and optical properties of Mo/Si multilayers fabricated by magnetron sputtering 被引量:2
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作者 LV Peng ZHANG ZaiQiang +6 位作者 GUAN JinTong WANG XiaoDong HOU XiuLi ZHANG LingYan WANG JiJun CHEN Bo GUAN QingFeng 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2013年第9期1689-1693,共5页
Mo/Si multilayers were fabricated by using magnetron sputtering method at different background pressures:6×10-5 Torr,3×10-5 Torr,and 3×10-6 Torr.The reflectivity of the Mo/Si multilayers increased from ... Mo/Si multilayers were fabricated by using magnetron sputtering method at different background pressures:6×10-5 Torr,3×10-5 Torr,and 3×10-6 Torr.The reflectivity of the Mo/Si multilayers increased from 1.93% to 16.63%,and the center wavelength revealed a blue shift to 0.12 nm with the decrease of background pressure.Grazing incident X-ray diffraction(GIXRD) indicated that multilayers fabricated at high background pressure possessed better periodic structure and thinner Mo-on-Si interlayers.Low crystallization degree in(110) preferred the orientation of Mo layers and serious interdiffusion in the Mo/Si multilayers fabricated at low background pressure were observed by transmission electron microscopy(TEM).According to quantitative analysis of microstructural parameters,the Mo layers thickness and thickness ratio of Mo/Si multilayers both decreased and approached the design value gradually by the decrease of background pressure.In addition,the thicknesses of Mo-on-Si and Si-on-Mo interlayers were 1.17 nm and 0.85 nm respectively.It is suggested that the influence of background pressures on the microstructure has a critical role in determining the optical properties of Mo/Si multilayers. 展开更多
关键词 background pressure effects optical properties MULTILAYER MICROSTRUCTURE crystalline orientation
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