光学薄膜厚度修正挡板的设计

本文论述一种用于镀制光学薄膜的厚度修正挡板新的设计方法我们通过应用截流蒸气云静止挡板技术和采用平面静止挡板透视投影法来设计光学薄膜厚度修正挡板最后给出设计和实验的结果

制膜技术与装置

O484.1 2000053494直接光CVD类金刚石碳膜的初期成膜结构=Structureof initial DLC films prepared by.directphoto chemical vapor-deposition technique[刊,中]/杜开瑛,石瑞英,谢茂浓,廖伟,张敏(四川大学物理系.四川,成都(610064))//半导体光电.—1999,20(6).—405-408以激波激励氙发射的真空紫外光作光源,乙炔作反应气体,采用直接光化学汽相淀积工艺,在硅。