-
题名纳米尺度HfO_2薄膜不同厚度对光学性质的影响
被引量:1
- 1
-
-
作者
张寅辉
任玲玲
高慧芳
刘小萍
-
机构
中国计量科学研究院纳米新材料计量研究所
太原理工大学表面工程研究所
-
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期375-382,共8页
-
基金
国家重点研发计划"国家质量基础的共性技术研究与应用"重点专项(2016YFF0204301)资助~~
-
文摘
Hf O_2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化。光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠。本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度Hf O_2薄膜厚度进行准确测量,再以该量值为准确薄膜厚度参考值。利用光谱椭偏仪测量Hf O_2膜厚和光学常数时,参考膜厚量值,从而得到对应相关膜厚的薄膜准确光学参数。研究了以Al2O_3作为薄膜缓冲层的名义值厚度分别为2,5,10 nm的超薄Hf O_2薄膜厚度对光学性质的影响。实验结果表明,随着Hf O_2薄膜厚度的增加,折射率也逐渐增大,在激光波长632.8 nm下其折射率分别为1.901,2.042,2.121,并且接近于体材料,而消光系数始终为0,表明纳米尺度Hf O_2薄膜在较宽的光谱范围内具有较好的增透作用,对光没有吸收。
-
关键词
纳米尺度HfO
2薄膜
掠入射X射线反射技术
光谱椭偏
厚度和光学表征
-
Keywords
nanoscale HfO 2 thin films
grazing incidence X-ray reflectivity
spectroscopic ellipsometry
characterization of thickness and optical properties
-
分类号
O434.19
[机械工程—光学工程]
TB39
[一般工业技术—材料科学与工程]
-