在钛酸锶钡体材上溅射厚铜膜工艺

采用磁控溅射的方法在钛酸锶钡材料上涂覆金属铜膜。通过试验确定了钛酸锶钡电光材料进行溅射镀厚膜时的工艺参数,并对膜层的表面质量、附着性能和膜均匀性的影响进行了分析,指出了获得优良的厚铜膜层的实现途径和方法。

在钛酸锶钡体材上溅射厚铜膜工艺

本文采用磁控溅射的方法在钛酸锶钡材料上涂覆金属铜膜。文章详细论述了溅射金属铜膜的工艺参数,并就这些参数对所镀膜层表面质量、附着性能和膜均匀性的影响进行了分析,指出了获得优良的厚铜膜层的实现途径和方法。