利用蒙脱石层间域制备纳米银、氧化锌初探

以银氨和硝酸锌作为插层体,采用原位干法还原(非水介质下还原)成功制备出Ag/蒙脱石和ZnO/蒙脱石插层复合物。XRD表明,纳米银和氧化锌在蒙脱石层间粒度很小,氧化锌将蒙脱石层间距由1.32nm撑大到1.85nm。TEM直观地表现了Ag/蒙脱石和ZnO/蒙脱石插层复合物的形貌特征。两个实验的证明了在蒙脱石层间采用原位干法还原合成纳米金属是可行的,避免了因液态还原剂将纳米金属置换出来的问题。