1
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Bi_2Te_3热电薄膜的电化学原子层外延制备 |
侯杰
杨君友
朱文
郜鲜辉
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
7
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2
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电化学原子层外延及其新材料制备应用研究进展 |
侯杰
杨君友
朱文
郜鲜辉
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《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
4
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3
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电化学原子层外延法制备碲化铋薄膜 |
朱文
杨君友
郜鲜辉
侯杰
鲍思前
樊希安
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《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
3
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4
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电化学原子层外延制备Bi—Se系薄膜 |
肖承京
杨君友
朱文
段兴凯
张亲亲
李凯
李良彪
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
1
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5
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应用原子层外延技术分析Turbo-Disk MOCVD外延生长模式 |
王浩
廖常俊
范广涵
刘颂豪
郑树文
李述体
郭志友
孙慧卿
陈贵楚
陈炼辉
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《液晶与显示》
CAS
CSCD
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2004 |
0 |
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6
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原子层外延生长Ⅲ-Ⅴ族化合物薄膜机理的研究进展 |
何晓崐
左然
徐楠
于海群
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《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2012 |
0 |
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7
|
GaAs原子层外延技术的现状及发展 |
戴国瑞
王庆亚
张玉书
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《半导体情报》
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1993 |
0 |
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8
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Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体电化学原子层外延 |
樊玉薇
李永祥
吴冲若
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《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
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1998 |
0 |
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9
|
用原子层外延技术生长异质结器件 |
徐征
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《液晶与显示》
CAS
CSCD
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1989 |
0 |
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10
|
原子层外延生长的发绿光TFEL器件 |
高凯平
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《液晶与显示》
CAS
CSCD
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1990 |
0 |
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11
|
原子层外延法生长金刚石 |
M.N.Yoder
树安
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《新型炭材料》
SCIE
EI
CAS
CSCD
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1990 |
0 |
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12
|
原子层外延生长GaAs和GaAsP |
张忱
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《电子材料快报》
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1996 |
0 |
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13
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原子层外延法生产氧化铟锡薄膜 |
李玉增
|
《有色与稀有金属国外动态》
|
1996 |
0 |
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14
|
Ⅲ-Ⅴ族化合物超薄层外延生长新技术——原子层外延 |
齐学参
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《半导体情报》
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1992 |
0 |
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15
|
原子层外延 |
彭英才
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《物理》
CAS
北大核心
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1990 |
0 |
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16
|
原子层分子束外延技术 |
宋登元
|
《微电子学与计算机》
CSCD
北大核心
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1991 |
0 |
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17
|
电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建 |
王立世
张国庆
Marie-Christine Record
卜智翔
孙力
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《云南师范大学学报(自然科学版)》
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2015 |
1
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18
|
激光诱导原子层加工技术 |
张玉书
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《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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1995 |
0 |
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19
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GaN HEMT器件的AlN缓冲层MOCVD外延生长研究 |
倪洪亮
吴金星
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《舰船电子对抗》
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2020 |
0 |
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20
|
碲在金衬底上的不可逆吸附行为及其欠电位沉积机制的研究 |
朱文
杨君友
周东祥
樊希安
段兴凯
|
《化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
|
2007 |
2
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