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清洗技术的新亮点——紫外(UV)光清洗
1
作者
王涛
宋丽娟
《电子电路与贴装》
2004年第2期23-23,共1页
随着光电子产业的迅猛发展.清洗工艺在光电产品中是必不可少的工艺,清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要如何保证产品的高可靠性和高成品率?如何保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护?那么.对使用者来说:选...
随着光电子产业的迅猛发展.清洗工艺在光电产品中是必不可少的工艺,清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要如何保证产品的高可靠性和高成品率?如何保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护?那么.对使用者来说:选择高洁净度.且又具有安全。
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关键词
紫外光清洗
工作原理
应用
原子清洁度
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职称材料
题名
清洗技术的新亮点——紫外(UV)光清洗
1
作者
王涛
宋丽娟
机构
涿州市蓝天特灯发展有限公司
出处
《电子电路与贴装》
2004年第2期23-23,共1页
文摘
随着光电子产业的迅猛发展.清洗工艺在光电产品中是必不可少的工艺,清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要如何保证产品的高可靠性和高成品率?如何保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护?那么.对使用者来说:选择高洁净度.且又具有安全。
关键词
紫外光清洗
工作原理
应用
原子清洁度
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
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作者
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1
清洗技术的新亮点——紫外(UV)光清洗
王涛
宋丽娟
《电子电路与贴装》
2004
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