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微波等离子体炬发射光谱法去溶系统性能的研究
被引量:
4
1
作者
周建光
彭增辉
+4 位作者
郇延富
于爱民
金钦汉
周翔
刘梅
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期1273-1276,共4页
用微波等离子体炬 (MPT)作激发光源 ,等离子体的工作气体为氩气 ,研究了气动雾化进样去溶系统的工作参数对分析性能的影响 ,探讨了水冷凝与浓硫酸吸收二者协同去溶的相关性 .结果表明 ,通过测量OH带 (Q1 带 ,带头谱线为 3 0 8.5 2 0 nm...
用微波等离子体炬 (MPT)作激发光源 ,等离子体的工作气体为氩气 ,研究了气动雾化进样去溶系统的工作参数对分析性能的影响 ,探讨了水冷凝与浓硫酸吸收二者协同去溶的相关性 .结果表明 ,通过测量OH带 (Q1 带 ,带头谱线为 3 0 8.5 2 0 nm)的发射强度即可判别样品去溶效果 .
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关键词
性能
微波等离子体矩
原子发射光谱
去溶系统
气动雾化进样
下载PDF
职称材料
一种新型的等离子体质谱和光谱进样系统:膜去溶进样系统
被引量:
1
2
作者
傅文彦
《国外分析仪器技术与应用》
2000年第3期27-29,共3页
本文简要阐述了美国CFTAC公司生产的新型等离子体质谱和光谱进样系统的特点及其在降低稀土元素氧化物干扰,提高被测元件检出限方面所起的作用。给出了分析实例。
关键词
ICP
膜
去溶
进样
系统
稀土
光谱进样
系统
质谱
下载PDF
职称材料
Nafion干燥器的去溶机理和日常维护
被引量:
8
3
作者
汪淑华
郇延富
+2 位作者
冯国栋
曹彦波
金钦汉
《分析仪器》
CAS
2003年第1期23-26,共4页
介绍了用于原子光谱分析的Nafion干燥器的去溶机理、使用条件及日常维护与清洗。与其他常用去溶系统或干燥器相比较 ,Nafion去溶系统具有更高的去溶效率、更好的选择性、更强的抗腐蚀能力 ,日常维护和清洗简单。该系统不存在记忆效应和...
介绍了用于原子光谱分析的Nafion干燥器的去溶机理、使用条件及日常维护与清洗。与其他常用去溶系统或干燥器相比较 ,Nafion去溶系统具有更高的去溶效率、更好的选择性、更强的抗腐蚀能力 ,日常维护和清洗简单。该系统不存在记忆效应和峰展宽问题 ,可大大改善原子光谱分析系统的性能。
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关键词
去溶
机理
维护
Nafion干燥器
膜
去溶
去溶系统
等离子体
原子光谱分析
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职称材料
题名
微波等离子体炬发射光谱法去溶系统性能的研究
被引量:
4
1
作者
周建光
彭增辉
郇延富
于爱民
金钦汉
周翔
刘梅
机构
吉林大学化学学院分析科学研究所
济源钢铁厂质管处
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第7期1273-1276,共4页
基金
国家自然科学基金 (批准号 :2 973 5 160 )
国家"九五"科技攻关项目 (批准号 :96-A2 3 -0 2 -0 1)
吉林省科技发展项目 (批准号 :93 10 0 8)
文摘
用微波等离子体炬 (MPT)作激发光源 ,等离子体的工作气体为氩气 ,研究了气动雾化进样去溶系统的工作参数对分析性能的影响 ,探讨了水冷凝与浓硫酸吸收二者协同去溶的相关性 .结果表明 ,通过测量OH带 (Q1 带 ,带头谱线为 3 0 8.5 2 0 nm)的发射强度即可判别样品去溶效果 .
关键词
性能
微波等离子体矩
原子发射光谱
去溶系统
气动雾化进样
Keywords
Microwave plasma torch
Atomic emission spectrometry
Desovation system
分类号
O657.31 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
一种新型的等离子体质谱和光谱进样系统:膜去溶进样系统
被引量:
1
2
作者
傅文彦
机构
北京分析仪器研究所
出处
《国外分析仪器技术与应用》
2000年第3期27-29,共3页
文摘
本文简要阐述了美国CFTAC公司生产的新型等离子体质谱和光谱进样系统的特点及其在降低稀土元素氧化物干扰,提高被测元件检出限方面所起的作用。给出了分析实例。
关键词
ICP
膜
去溶
进样
系统
稀土
光谱进样
系统
质谱
分类号
O657.63 [理学—分析化学]
O657.39 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
Nafion干燥器的去溶机理和日常维护
被引量:
8
3
作者
汪淑华
郇延富
冯国栋
曹彦波
金钦汉
机构
吉林大学化学院分析科学研究所
出处
《分析仪器》
CAS
2003年第1期23-26,共4页
基金
吉林省科技发展计划重点项目 (合同号 :2 0 0 10 3 0 6-1)
文摘
介绍了用于原子光谱分析的Nafion干燥器的去溶机理、使用条件及日常维护与清洗。与其他常用去溶系统或干燥器相比较 ,Nafion去溶系统具有更高的去溶效率、更好的选择性、更强的抗腐蚀能力 ,日常维护和清洗简单。该系统不存在记忆效应和峰展宽问题 ,可大大改善原子光谱分析系统的性能。
关键词
去溶
机理
维护
Nafion干燥器
膜
去溶
去溶系统
等离子体
原子光谱分析
分类号
O657.3 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微波等离子体炬发射光谱法去溶系统性能的研究
周建光
彭增辉
郇延富
于爱民
金钦汉
周翔
刘梅
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
4
下载PDF
职称材料
2
一种新型的等离子体质谱和光谱进样系统:膜去溶进样系统
傅文彦
《国外分析仪器技术与应用》
2000
1
下载PDF
职称材料
3
Nafion干燥器的去溶机理和日常维护
汪淑华
郇延富
冯国栋
曹彦波
金钦汉
《分析仪器》
CAS
2003
8
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
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