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一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法（专利号：95111978．8）
1
《工业金刚石》 2004年第6期37-37,共1页
一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反... 一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气。 展开更多
关键词 激光化学气相沉积 工作台 金刚石膜 反应室 沉积温度 衬底 激光辐照 高导热 氢气 抽真空
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纳米Si/C/N复相粉体的微波吸收特性 被引量：14
2
作者 赵东林 周万城 《复合材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期65-70,共6页
采用双反应室激光气相合成纳米粉体装置 ,以六甲基二硅胺烷 ((Me3Si) 2 NH) (Me:CH3)为原料合成了纳米 Si/ C/ N复相粉体 ,粒径为 2 0 nm～ 30 nm。研究了纳米 Si/ C/ N复相粉体在 8.2 GHz～ 18GHz的微波吸收特性 ,结果表明 :纳米 Si/ C... 采用双反应室激光气相合成纳米粉体装置 ,以六甲基二硅胺烷 ((Me3Si) 2 NH) (Me:CH3)为原料合成了纳米 Si/ C/ N复相粉体 ,粒径为 2 0 nm～ 30 nm。研究了纳米 Si/ C/ N复相粉体在 8.2 GHz～ 18GHz的微波吸收特性 ,结果表明 :纳米 Si/ C/ N复相粉体介电常数的实部 (ε′)和虚部 (ε″)在 8.2 GHz～ 18GHz随频率增大而减小 ,介电损耗 (tgδ=ε″/ε′)较高 ,是较为理想的微波吸收材料 ;纳米 Si/ C/ N复相粉体在不同基体中的微波吸收特性出现很大差异。纳米 Si/ C/ N复相粉体中的 Si C微晶固溶了大量的 N原子 ,形成大量带电缺陷 ,极化弛豫是吸收微波的主要原因。根据纳米 Si/ C/ N复相粉体与石蜡复合体的实测介电参数 ,设计出多组在 8GHz～ 18GHz范围内微波反射系数 R≤ - 8d 展开更多
关键词 纳米Si/C/N复相粉体 微波吸收特性 微观结构 界面作用 双反应室激光气相合成
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纳米材料制备装置
3
《新材料产业》 2001年第11期74-74,共1页
关键词 纳米材料 制备装置 硅基钠米粉 生产线 激光气相法 光路系统 反应室
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