FELLOW CMOS双层金属工艺的门阵列版图设计系统

本文详述了CMOS双层金属工艺的门阵列版图设计系统 FELLOW及其系统结构与主要算法.该系统覆盖了门阵列设计中从逻辑网表描述(Netlist)到物理版图(Layout)生成的所有设计阶段.在系统的结构设计上,采用了统一的数据管理和用户界面管理,而使系统模块化、集成化.整个系统与库单元都独立于工艺设计规则,即系统与已建立的单元库可以适用于不同的设计规则.三个芯片设计的实例比较,结果显示其芯片面积比单层布线工艺要减小20％以上.

双层金属工艺中的IMD-PETEOS

本文讨论了PETEOS在金属层间介质（MD）上的运用，并就其运用于亚微米CMOS、双层金属工艺中所要求的一些电、机械及结构方面的特性进行了探讨研究。