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高性能双栅复合介质ZnO薄膜晶体管的模拟
1
作者
王昭
姚阳
钟传杰
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第2期115-119,共5页
提出ZnO薄膜晶体管的一种新型结构——双栅复合介质结构,并利用ATLAS软件对双栅复合介质结构与双栅单介质结构进行仿真。对比分析结果表明,采用复合介质材料可以明显提高器件的电学特性,在相同偏置条件下,双栅复合介质结构饱和电流为5.5...
提出ZnO薄膜晶体管的一种新型结构——双栅复合介质结构,并利用ATLAS软件对双栅复合介质结构与双栅单介质结构进行仿真。对比分析结果表明,采用复合介质材料可以明显提高器件的电学特性,在相同偏置条件下,双栅复合介质结构饱和电流为5.5×10-5 A,阈值电压为5.83V,亚阈值斜率为0.128V/dec,开关电流比为109;双栅单介质结构相应值分别为1.3×10-7 A、15.5V、0.297V/dec和108。通过晶界势垒高度随VGS变化分析了新型结构阈值电压降低的物理机制。
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关键词
氧化锌薄膜晶体管
双栅复合介质
晶粒间界
势垒高度
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职称材料
题名
高性能双栅复合介质ZnO薄膜晶体管的模拟
1
作者
王昭
姚阳
钟传杰
机构
江南大学物联网工程学院
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第2期115-119,共5页
基金
国家自然基金资助项目(60776056)
文摘
提出ZnO薄膜晶体管的一种新型结构——双栅复合介质结构,并利用ATLAS软件对双栅复合介质结构与双栅单介质结构进行仿真。对比分析结果表明,采用复合介质材料可以明显提高器件的电学特性,在相同偏置条件下,双栅复合介质结构饱和电流为5.5×10-5 A,阈值电压为5.83V,亚阈值斜率为0.128V/dec,开关电流比为109;双栅单介质结构相应值分别为1.3×10-7 A、15.5V、0.297V/dec和108。通过晶界势垒高度随VGS变化分析了新型结构阈值电压降低的物理机制。
关键词
氧化锌薄膜晶体管
双栅复合介质
晶粒间界
势垒高度
Keywords
ZnO thin-film transistors(TFT)
double-gate multiple-layer insulator
grain boundary
barrier height
分类号
TN321.5 [电子电信—物理电子学]
TN325.3 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高性能双栅复合介质ZnO薄膜晶体管的模拟
王昭
姚阳
钟传杰
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2015
0
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职称材料
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