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题名双模测量法消除编码孔成像的近场伪影
被引量:3
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作者
肖洒
兰明聪
党晓军
张连平
韦孟伏
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机构
中国工程物理研究院
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出处
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第8期43-47,共5页
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基金
中国工程物理研究院基金(2011B0302054)资助
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文摘
在编码孔成像技术中,由于存在近场伪影的干扰,降低了重建图像质量。为了消除这一影响,本文通过分析近场伪影的产生和消除原理,采用Geant4程序模拟了近场条件下300 keV单能源,通过MURA(19×19)嵌套编码孔成像,分别获得了单模和双模测量条件下重建得到的源分布图像。结果显示,单模测量得到的图像带有显著的近场伪影,而双模测量得到的图像中近场伪影得以消除。实际相机测量实验也获得了类似的结果。因此,与传统的单模测量法相比,双模测量法可以有效抑制和消除编码孔成像中的近场伪影,从而增强图像信噪比。
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关键词
双模测量法
编码孔成像
近场伪影
GEANT4
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Keywords
Double-mode measurement, Coded aperture imaging, Near-field artifact, Geant4
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分类号
TL99
[核科学技术—核技术及应用]
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