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铝注入的电力半导体器件产品的优势及其进一步开发
1
作者
S.柯雷
A.米林顿
+1 位作者
A.普鲁姆顿
尤金霜
《电气技术》
2006年第7期82-86,共5页
Dynex半导体公司用于功率双极半导体器件制造的铝注入技术(“i2”)的问世得到文献的肯定。本文介绍采用这种技术所获得的各种益处,特别讨论满足增加HVDC(高压直流输电)开关功率的需求、改善整流二极管制造能力、提高脉冲电源的极高电压...
Dynex半导体公司用于功率双极半导体器件制造的铝注入技术(“i2”)的问世得到文献的肯定。本文介绍采用这种技术所获得的各种益处,特别讨论满足增加HVDC(高压直流输电)开关功率的需求、改善整流二极管制造能力、提高脉冲电源的极高电压/极大电流能力,以及大面积晶闸管并联均流的有效参数匹配等重要课题。本文也涉及到器件键合和150mm直径的硅片制造事项。“i2”技术的灵活性最适合于为可预见的未来提供最佳的功率器件。
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关键词
双
注入
("
i2
")
铝
注入
技术
功率
双
极半导体器件
高压直流输电
(HVDC)
下载PDF
职称材料
题名
铝注入的电力半导体器件产品的优势及其进一步开发
1
作者
S.柯雷
A.米林顿
A.普鲁姆顿
尤金霜
机构
丹尼克斯半导体公司
北京金自天正公司
出处
《电气技术》
2006年第7期82-86,共5页
文摘
Dynex半导体公司用于功率双极半导体器件制造的铝注入技术(“i2”)的问世得到文献的肯定。本文介绍采用这种技术所获得的各种益处,特别讨论满足增加HVDC(高压直流输电)开关功率的需求、改善整流二极管制造能力、提高脉冲电源的极高电压/极大电流能力,以及大面积晶闸管并联均流的有效参数匹配等重要课题。本文也涉及到器件键合和150mm直径的硅片制造事项。“i2”技术的灵活性最适合于为可预见的未来提供最佳的功率器件。
关键词
双
注入
("
i2
")
铝
注入
技术
功率
双
极半导体器件
高压直流输电
(HVDC)
Keywords
“
i2
”
aluminium implant technology
power bipolar semiconductor devices
HVDC
分类号
TN301 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
铝注入的电力半导体器件产品的优势及其进一步开发
S.柯雷
A.米林顿
A.普鲁姆顿
尤金霜
《电气技术》
2006
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