双玻璃晒架曝光机的总体设计与实现

紫外线曝光机是PCB图形转移中的重要设备。传统的迈拉晒架虽然简便,但存在着需要赶气、效率低、不能实现精确对位的缺点。而双玻璃晒架与传统的迈拉晒架相比不仅具有不需要赶气、效率高的优点,还可以实现手动或自动高精度对位。在结合中国市场的实际需求后,拟定了双玻璃晒架实施方案,研究了玻璃的固定方式、腔体真空、底片吸附等问题。在大量的实验基础上有效的解决了真空和重复精度两个关键技术问题。双玻璃晒架的成功研制还为实现手动、半自动以及全自动对位的紫外线曝光机系统奠定了基础。

CCD在双玻璃晒架的精密光学定位中的设计

随着电子工业的不断发展,对印制电路板的质量要求越来越高。传统销钉/孔定位方式已经不能适合现代生产的精密要求。CCD光学定位是全新的定位概念,设计了CCD光学定位系统的结构,实验验证了CCD光学对位精度可达到10μm,该指标明显优于传统定位方式的对位精度。

曝光机双玻璃晒架及其真空系统的设计

曝光机是图形转移中的重要设备。传统的迈拉晒架存在着需要赶气、效率低等缺点,已不能满足现代生产的需要。现今双玻璃晒架已在国外中、高档曝光机上普遍采用,但在国内各厂商还不具备生产能力。设计了散射光曝光机的双玻璃晒架系统,研究了玻璃的固定方式、腔体真空、底片吸附等问题,在实验基础上得出了当膨胀密封圈气压为0.03MPa,腔体真空度和底片吸附分别为40kPa和80kPa时,该晒架系统的真空效果较好。

基于双玻璃晒架系统的对位精度的设计

分析了双玻璃晒架系统所具有的优越性能,通过大量实验,得出了所设计的双玻璃晒架系统能够实现底片吸附功能,而且重复对位精度达到±12.5μm,最后展望了双玻璃晒架的美好前景。

紫外线曝光机的总体设计

随着电子行业的飞速发展,对作为电子元器件基础的印制板的需求量及其加工精度的要求越来越高。紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备。在实验基础上设计了双玻璃晒架曝光机,改进了其主要组成部分,实验结果表明,散射光双玻璃晒架曝光机达到了总体设计要求。

紫外线曝光机的总体设计

随着电子行业的飞速发展,对作为电子元器件基础的印制板的需求量及其加工精度的要求越来越高。紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备。传统曝光机的玻璃-迈拉晒架在生产过程中需要人工赶气,迈拉膜需要经常更换。由于冷却系统过于臃肿,使得其生产成本高、效率低,已不能满足PC B 生产的需要。在实验基础上设计了双玻璃晒架曝光机,改进了其主要组成部分,包括晒架系统、光路系统、冷却系统以及电气和控制系统的整体设计。实验结果表明,散射光双玻璃晒架曝光机达到了总体设计要求。