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双谱成像及其未来发展
1
作者
邓罗根
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
1998年第4期57-59,共3页
回顾了双谱成像方法的基本原理,考察了它与其它高分辨率技术特别是与自适应光学相融合技术的未来发展问题。
关键词
双谱成像
斑纹干涉量度术
自适应光学
高分辨
下载PDF
职称材料
题名
双谱成像及其未来发展
1
作者
邓罗根
机构
北京理工大学应用物理系
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
1998年第4期57-59,共3页
基金
国家自然科学基金高技术探索项目
文摘
回顾了双谱成像方法的基本原理,考察了它与其它高分辨率技术特别是与自适应光学相融合技术的未来发展问题。
关键词
双谱成像
斑纹干涉量度术
自适应光学
高分辨
分类号
O438 [机械工程—光学工程]
TH74 [机械工程—光学工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双谱成像及其未来发展
邓罗根
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
1998
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