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新型双异质结双平面掺杂功率PHEMT
1
作者
陈震
和致经
+2 位作者
魏珂
刘新宇
吴德馨
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期454-457,共4页
设计并制作了双异质结双平面掺杂的 Al0 .2 4 Ga0 .76 As/ In0 .2 2 Ga0 .78As/ Al0 .2 4 Ga0 .76 As功率 PHEMT器件 ,采用双选择腐蚀栅槽结构 ,有效提高了 PHEMT器件的输出电流和击穿电压 .对于 1μm栅长的器件 ,最大输出电流为5 0 0 m...
设计并制作了双异质结双平面掺杂的 Al0 .2 4 Ga0 .76 As/ In0 .2 2 Ga0 .78As/ Al0 .2 4 Ga0 .76 As功率 PHEMT器件 ,采用双选择腐蚀栅槽结构 ,有效提高了 PHEMT器件的输出电流和击穿电压 .对于 1μm栅长的器件 ,最大输出电流为5 0 0 m A/ mm ,跨导为 2 75 m S/ m m,阈值电压为 - 1 .4 V,最大栅漏反向击穿电压达到了 33V .研究结果表明 ,在栅源间距一定时 ,栅漏间距对于器件的输出电流、跨导和击穿电压有很大关系 ,是设计功率 PHEMT的关键之一 .
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关键词
PHEMT
双
平面掺杂
双选择腐蚀栅槽
击穿电压
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职称材料
题名
新型双异质结双平面掺杂功率PHEMT
1
作者
陈震
和致经
魏珂
刘新宇
吴德馨
机构
中国科学院微电子中心
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期454-457,共4页
文摘
设计并制作了双异质结双平面掺杂的 Al0 .2 4 Ga0 .76 As/ In0 .2 2 Ga0 .78As/ Al0 .2 4 Ga0 .76 As功率 PHEMT器件 ,采用双选择腐蚀栅槽结构 ,有效提高了 PHEMT器件的输出电流和击穿电压 .对于 1μm栅长的器件 ,最大输出电流为5 0 0 m A/ mm ,跨导为 2 75 m S/ m m,阈值电压为 - 1 .4 V,最大栅漏反向击穿电压达到了 33V .研究结果表明 ,在栅源间距一定时 ,栅漏间距对于器件的输出电流、跨导和击穿电压有很大关系 ,是设计功率 PHEMT的关键之一 .
关键词
PHEMT
双
平面掺杂
双选择腐蚀栅槽
击穿电压
Keywords
PHEMT
double planar doped
double selective recess
breakdown voltage
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
新型双异质结双平面掺杂功率PHEMT
陈震
和致经
魏珂
刘新宇
吴德馨
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
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