基于厚膜集成电路的双面互连电路制作方法研究

厚膜集成技术经过70多年的发展,已成为集成电路的一个重要组成部分。通过分析现有厚膜加工技术,明确了孔制作技术是厚膜双面互连电路片制作的关键技术。在现有孔加工技术基础上,分析了无掩膜填孔技术和掩膜填孔技术的适用性,并在此基础上增加研磨过程,去除正面多余的填孔浆料,改善了孔的质量,从而改进了厚膜双面互连电路片的工艺过程。还进行了研磨后陶瓷电路片金层金丝、金带焊接拉力测试实验和钯银层可焊性、耐焊性和焊接拉力测试实验,验证了研磨对后道组装没有影响。最后,根据验证的厚膜双面互连电路片制作方法完成了典型厚膜电路片的生产。

厚膜陶瓷基片通孔填充工艺

随着厚膜电路技术的发展,混合集成电路的集成度越来越高,要求提高混合集成电路陶瓷基片布线密度,而陶瓷基片双面布线是提高集成密度的较好方式之一。双面布线需要在厚膜陶瓷基片上制作通孔,并对通孔进行导体填充,以实现陶瓷基片正反两面电性能导通和散热等功能,而制作性能良好的导体孔柱是厚膜工艺的难点。重点介绍了通过优化填孔设备压力参数和掩膜孔径的工艺参数提高双面布线厚膜陶瓷基片通孔填充质量的工艺研究,实现提高厚膜陶瓷基片通孔填充效率和质量的目标。