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用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计
被引量:
2
1
作者
马平
唐小萍
杨春利
《电子工业专用设备》
2003年第2期36-39,55,共5页
比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了其优缺点,在此基础上对双面深度光刻机底面对准系统的设计原理、结构及对准过程做了详细阐述,并进行了对准系统的精度分析,最后介绍了为系统实现所采取的其他技术措施。实践证明,该对准系统...
比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了其优缺点,在此基础上对双面深度光刻机底面对准系统的设计原理、结构及对准过程做了详细阐述,并进行了对准系统的精度分析,最后介绍了为系统实现所采取的其他技术措施。实践证明,该对准系统应用于深紫外双面深度光刻机中,系统运行稳定、可靠,完全能满足系统的精度要求。
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关键词
对准精度
掩模
微电子机械系统
MEMS
双面深度光刻机
对准系统
下载PDF
职称材料
题名
用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计
被引量:
2
1
作者
马平
唐小萍
杨春利
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《电子工业专用设备》
2003年第2期36-39,55,共5页
文摘
比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了其优缺点,在此基础上对双面深度光刻机底面对准系统的设计原理、结构及对准过程做了详细阐述,并进行了对准系统的精度分析,最后介绍了为系统实现所采取的其他技术措施。实践证明,该对准系统应用于深紫外双面深度光刻机中,系统运行稳定、可靠,完全能满足系统的精度要求。
关键词
对准精度
掩模
微电子机械系统
MEMS
双面深度光刻机
对准系统
Keywords
Micro electromechanical system
Bottom side alignment
Alignment precision
Mask
Silicon
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计
马平
唐小萍
杨春利
《电子工业专用设备》
2003
2
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职称材料
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