双靶溅射法制作SmS光学薄膜

以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上成功制作了S-SmS和M-SmS微晶薄膜,并采用XRD,AFM和RBS及光学性能测定等测试手段对薄膜进行了分析测试。结果表明:基板温度低于200℃的情况下;或者在基板温度为400℃,薄膜组成中Sm过量的条件下均可以直接获得在常温常压下稳定存在的M-SmS微晶薄膜。S-SmS和M-SmS微晶薄膜表现出明显不同的光学特性。

双靶溅射法制备M-SmS光学薄膜的研究

为了制备难以直接获得的金属相SmS,以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上直接获得了常温常压下稳定存在的M SmS微晶薄膜,并采用XRD分析、内应力和RBS成分测试等手段对M SmS的形成机理进行了研究.结果表明:M SmS薄膜的形成是由于薄膜中存在压应力,压应力的形成与薄膜基板温度、薄膜沉积速率、薄膜中Sm元素过量以及基板之间膨胀系数的差异有关.