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半导体GaN三阶非线性光学性质研究
1
作者
石圣涛
李中国
宋瑛林
《黑龙江科技信息》
2012年第33期8-9,共2页
用双4f相位成像技术,对半导体GaN多晶在600nm,皮秒时域的三阶非线性光学性质进行了实验测量。根据相关理论,通过数值模拟确定了GaN在相关条件下的三阶非线性光学参数。实验测量得到的双光子吸收系数b=9.54 10-11(m/W),三阶非线性折射率n...
用双4f相位成像技术,对半导体GaN多晶在600nm,皮秒时域的三阶非线性光学性质进行了实验测量。根据相关理论,通过数值模拟确定了GaN在相关条件下的三阶非线性光学参数。实验测量得到的双光子吸收系数b=9.54 10-11(m/W),三阶非线性折射率n2=-1.33 10-17(m2/W),该结果表明GaN是一种性能优异的非线性光学材料。
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关键词
双4f相位成像技术
GAN
相位
物体
光学非线性
下载PDF
职称材料
题名
半导体GaN三阶非线性光学性质研究
1
作者
石圣涛
李中国
宋瑛林
机构
苏州大学
出处
《黑龙江科技信息》
2012年第33期8-9,共2页
文摘
用双4f相位成像技术,对半导体GaN多晶在600nm,皮秒时域的三阶非线性光学性质进行了实验测量。根据相关理论,通过数值模拟确定了GaN在相关条件下的三阶非线性光学参数。实验测量得到的双光子吸收系数b=9.54 10-11(m/W),三阶非线性折射率n2=-1.33 10-17(m2/W),该结果表明GaN是一种性能优异的非线性光学材料。
关键词
双4f相位成像技术
GAN
相位
物体
光学非线性
分类号
O631.24 [理学—高分子化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
半导体GaN三阶非线性光学性质研究
石圣涛
李中国
宋瑛林
《黑龙江科技信息》
2012
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